过程测量与“成品测量”相对。一种偏重于操作过程的技能测定。在学生的职业技能训练中常采用。注重学生操作的质量及效率，如操作程序、工作态度及速度等，以提供丰富的诊断性资料，有助于改善教学。方法主要是观察，即由教师观察学生的操作过程。

中文名称

过程测量

英文名称

process measurement

定　　义

获取信息，以确定过程各变量的值的测量。

应用学科

机械工程（一级学科），工业自动化仪表与系统（二级学科），工业自动化仪表与系统一般名词（三级学科）

全国工业过程测量和控制标准化技术委员会SAC/TC124（以下简称标委会）直属中国国家标准化管理委员会，由全国工业自动化领域中的各单位选举产生，是国际电工委员会IEC/TC65和ISO/TC30的国内对口单位。标委会的运作受中国国家标准化管理委员会领导，并接受中国机械工业联合会及国家各有关部门的业务指导，在工业过程测量和控制领域内开展全国性标准化技术工作。

标委会的工作范围是工业过程测量和控制领域，在国际上直接对口IEC/TC65“工业过程测量和控制”和ISO/TC30“封闭管道中流体流量的测量”。其主要工作包括：制定工业过程测量和控制用通信网络协议标准，各类仪器仪表、执行机构、控制设备标准和安全标准。

标委会目前下设6个分委会，分别是SC1“温度、物位、机械量仪表及结构装置分委会”，SC2“控制仪表及装置、工业控制计算机系统分委会”，SC3“压力仪表分委会”，SC4“工业通信（现场总线）及系统分委会”，SC5“可编程序控制器及系统分委会”和SC6“分析仪器及分析技术分委会”。标委会现有委员近300人，分布在全国各有关行业。

椭偏仪测量椭偏参数

在椭偏测量过程中，有两个椭偏参数非常关键。（标准）椭圆偏振测量四个史托克参数(Stokes parameters)中的两个，通常以Δ及Φ来表示。TanΦ为反射后之振幅比，Δ为相位移（相差）。由于椭圆偏振系测量两项之比值（或差异）而非其绝对数值，因此这技术所得的数据是相当正确且可再现的，其对散射及扰动等因素较不敏感，且不需要标准样品或参考样品。

椭偏仪测量数据分析和拟合

椭圆偏振为间接量测的技术，也就是说，一般测得的Δ及Φ并不能直接转换为样品的光学常数，通常需要建构模型来进行分析。只有对于无限厚（约厘米等级）、各向同性且均匀的膜，才可能直接转换得到其Δ及Φ之数值。在所有其他的情形下，则必需建构其层状模型，并考虑所有各层之各别的光学常数如(折射率或介电常数)及厚度，且依正确的层畳顺序建立。再借由多次最小方差法最适化，变动未知的光学常数及(或)厚度参数，以之代入菲涅耳方程计算求得其对应Δ及Φ数值。最后，所得最接近实验数据之Δ及Φ数值，其参数来源的光学常数及(或)厚度可视为此量测之最适化结果。

椭偏仪测量椭偏测量结果

椭偏测量可取得薄膜的介电性质（复数折射率或介电常数）。它已被应用在许多不同的领域，从基础研究到工业应用，如半导体物理研究、微电子学和生物学。椭圆偏振是一个很敏感的薄膜性质测量技术，且具有非破坏性和非接触之优点。

分析自样品反射之偏振光的改变，椭圆偏振技术可得到膜厚比探测光本身波长更短的薄膜资讯，小至一个单原子层，甚至更小。椭圆仪可测得复数折射率或介电函数张量，可以此获得基本的物理参数，并且这与各种样品的性质，包括形态、晶体质量、化学成分或导电性，有所关联。它常被用来鉴定单层或多层堆栈的薄膜厚度，可量测厚度由数埃（Angstrom）或数纳米到几微米皆有极佳的准确性。

椭偏仪测量被测材料

半导体物理、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、表界面科学研究、物理、化学、生物、医药、介电材料、有机高分子聚合物、金属氧化物、金属钝化膜、各种液体薄膜、自组装单分子层、多层膜物质等等