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高次谐波注入源

高次谐波注入源是一种用于物理学领域的物理性能测试仪器,于2017年03月31日启用。

高次谐波注入源基本信息

高次谐波注入源主要功能

种子源,超快x射线源。 2100433B

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高次谐波注入源造价信息

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P25/P26谐波功能

  • 品种:断路器附件;系列:CW2系列可选功能、附件;规格:配用CW2全系列断路器;
  • 常熟开关
  • 13%
  • 上海西屋开关有限公司
  • 2022-12-08
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ER35/ER36谐波功能

  • 品种:断路器附件;系列:CW3全系列可选功能、附件;规格:配用CW3全系列断路器;
  • 常熟开关
  • 13%
  • 上海西屋开关有限公司
  • 2022-12-08
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谐波

  • 进线回路 PA2000-4
  • 新菱
  • 13%
  • 扬州新菱电器有限公司四川办事处
  • 2022-12-08
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谐波保护器

  • 品种:谐波保护器;规格:ANHPD300;
  • 安科瑞
  • 13%
  • 山西易尔易科技有限公司
  • 2022-12-08
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谐波

  • 进线回路 PA2000-3
  • 新菱
  • 13%
  • 扬州新菱电器有限公司四川办事处
  • 2022-12-08
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加热窑

  • ×宽×长[4×4×4](m)
  • 台班
  • 汕头市2012年4季度信息价
  • 建筑工程
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加热窑

  • ×宽×长[4×4×4](m)
  • 台班
  • 汕头市2012年1季度信息价
  • 建筑工程
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加热窑

  • ×宽×长[4×4×4](m)
  • 台班
  • 汕头市2011年3季度信息价
  • 建筑工程
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加热窑

  • ×宽×长[4×4×4](m)
  • 台班
  • 汕头市2011年2季度信息价
  • 建筑工程
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加热窑

  • ×宽×长 4×4×4m
  • 台班
  • 广州市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
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POE注入

  • 802.3at 千兆PoE 注入
  • 18个
  • 1
  • 信锐
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2019-03-21
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PoE注入

  • 强制供电型,30W防雷加强千兆PoE注入
  • 1个
  • 3
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2022-03-24
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谐波监测测屏

  • 谐波监测测屏
  • 3套
  • 1
  • 含税费 | 含运费
  • 2011-04-28
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室外AP专用POE注入

  • 1.名称:室外AP专用POE注入
  • 1套
  • 1
  • 详见规格型号
  • 中高档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2017-11-29
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团粒喷播层,80mm

  • 团粒喷播层,80mm
  • 5570m²
  • 3
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2022-10-08
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高次谐波注入源技术指标

30eV-2KEV/100as-10fs。

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高次谐波注入源常见问题

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高次谐波注入源文献

一种开关电源高次谐波的消除方法 一种开关电源高次谐波的消除方法

一种开关电源高次谐波的消除方法

格式:pdf

大小:140KB

页数: 2页

开关电源广泛地应用在各类电子产品上。但很多开关电源的开关管处于硬开关状态。开关管在储能元件开关变压器电感电流不等于零的情况下突然关断,分布电容与变压器的漏感会产生振玲现象或其他高次谐波的干扰,这种高次谐波的频率非常高,一般在几百kHz到几MHz之间,而且通过常规的增加后级滤波电容容量的方法来滤除这种高频干扰的效果不明显,将会严重影响对电源谐波要求比较高的单片机的正常工作。文章在几种抗高频谐波干扰的实验基础上,发现对开关管进行阻容能量的吸收和在有源整流管引脚上串入磁珠的方法能比较有效地抑制开关电源的高次谐波干扰。

荧光灯电路中高次谐波的抑制 荧光灯电路中高次谐波的抑制

荧光灯电路中高次谐波的抑制

格式:pdf

大小:140KB

页数: 2页

文章在简要介绍了高次谐波的产生、危害以及电子镇流器中逆变器的高次谐波对电网、无线电等的干扰,分析了如何滤除荧光灯电路中高次谐波。

电源注入器基本介绍

​电源注入器,又称POE注入器等

电源注入器提供一个能替代本地电源,多端口POE供电交换机和多端口供电配线板的选项来增加无线局域网接入点部署的灵活性。

电源注入器通常使用外置电源,提供直流电源,与数据信号一并发送至接入点(AP、)。电源注入器在超五类线缆中未用的线对上提供高达30W电源,提供足够的电力供应至328英尺(100米)距离。

5类以太网电缆连接电源注入器一端至以太网交换机(集线器或网络),另一条以太网线承载电源和数据至接入点或网桥的以太网口。电源注入器的电源连接到墙壁插座或电源排插。

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高次谐波效应高次谐波效应

无论是裸堆还是带反射层的堆,在次临界状态下都存在着高次谐波。如前所指出的,堆内的中子通量

可用谐波
展开。

各阶高次谐波的空间分布

都不相同,因此不同点
处的各阶高次谐波的贡献亦不相同。例如,在裸堆中,设脉冲中子源放在堆芯中心,则在堆内不同点的高次谐波功
都不同,如图2所示。在不同点测得的中子通量随时间的变化曲线也会不同。例如在图2中所示的0点,三次谐波
和五次谐波
可能相互抵消,因此基波占主导,在a点,三次谐波
,只有五次谐波
及高于五次的谐波存在,在b点,三次谐波与五次谐波均不为零。因此,如果探测器与源的位置选择适当,可以消除或减少高次谐波的影响。

例如,对于一个高H半径为R的圆柱形裸堆,将源可放在堆的顶部中央

处,如图3所示。源中子所激励的径向中子通量的谐波与轴向中子通量的谐波的空间分布,如图3中曲线所示。如果把探测器放于
处,则轴向通量的三次谐波与径向通量的三次谐波在该处均为零。如果把探测器放于
处,则轴向通量的二次谐波与径向通量的三次谐波在该点均为零。另一种方法是同时将两个相同的探测器分别放在
处和
处进行测量,然后将测得的信号相加。这样,在合成的信号中,轴向通量二次谐波的贡献互相抵消,而轴向通量的三次谐波和径向通量的三次谐波均无贡献。以上只示例地介绍了在实验中如何消除或减少高次谐波的方法。在数据处理中亦可采用适当方法来消除或部分消除高次谐波的影响,如外推面积法,G-R方法等。

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离子注入MEVVA源

离子注入介绍

M EVVA源是金属蒸汽真空弧离子源的缩称。这是上世纪80年代中期由美国加州大学伯克利分校的布朗博士由于核物理研究的需要发明研制成功的。这种新型的强流金属离子源问世后很快就被应用于非半导体材料离子注入表面改性,并引起了强流金属离子注入的一场革命,这种独特的离子注入机被称为新一代金属离子注入机。

离子注入优点

(1)对元素周期表上的固体金属元素(含碳)都能产生10毫安量级的强束流;

(2)离子纯度取决于阴极材料的纯度,因此可以达到很高的纯度,同时可以省去昂贵而复杂的质量分析器;

(3)金属离子一般有几个电荷态,这样可以用较低的引出电压得到较高的离子能量,而且用一个引出电压可实现几种能量的叠加(离子)注入;

(4)束流是发散的,可以省去束流约束与扫描系统而达到大的注入面积。其革命性主要有两个方面,一是它的高性能,另一是使离子注入机的结构大大简化,主要由离子源、靶室和真空系统这三部分组成。

离子注入发展

在国家863计划的大力支持下,经过十多年的研究和开发,M EVVA源金属离子注入表面技术在硬件(设备)和软件(工艺)两方面均已取得了重要的突破和进展,并已具备了实现产业化的基础。在设备方面,完成了M EVVAIIA-H、MEVVAII-B和MEVVA50型3种不同型号M EVVA源的研制,主要性能达到国际先进水平。仅“九五”期间,就已先后为台湾地区、香港地区和国内大学研究所和工厂生产了15台M EVVA源离子注入机或M EVVA源镀膜设备。

M EVVA源离子注入机的应用,使强流金属离子注入变得更简便、更经济,效率大大提高,十分有利于这项技术的产业化。在表面优化工艺方面,钢制切削工具、模具和精密运动耦合部件3大类、7个品种的M EVVA源离子注入表面处理,取得了延寿3-30倍的显著优化效果,并已通过国家部委级技术鉴定,成果属国际先进水平。

离子注入应用

这项表面处理技术的优越性、实用性及其广阔的市场前景已被越来越多的部门和单位所赏识,得到越来越广泛的应用。根据多年来的研究与开发,同时借鉴国际上的新进展,M EVVA源金属离子注入特别适用于以下几类工模具和零部件的表面处理:

(1)金属切削工具(包括各种用于精密加工和数控加工中使用的钻、铣、车、磨等工具和硬质合金工具),一般可以提高使用寿命3-10倍;

(2)热挤压和注塑模具,可使能耗降低20%左右,延长使用寿命10倍左右;

(3)精密运动耦合部件,如抽气泵定子和转子,陀螺仪的凸轮和卡板,活塞、轴承、齿轮、涡轮涡杆等,可大幅度地降低摩擦系数,提高耐磨性和耐蚀性,延长使用寿命最多可以达到100倍以上;

(4)挤压合成纤维和光导纤维的精密喷嘴,可以大大提高其抗磨蚀性和使用寿命;

(5)半导体工业中的精密模具,罐头工业中的压印和冲压模具等,可显著提高这些贵重、精密模具的工作寿命;

(6)医用矫形修复部件(如钛合金人工关节)和手术器具等,其经济效益和社会效益非常好。

离子注入技术

这项高技术是一个方兴未艾的新兴产业,硬件设备的处理能力和效率有待进一步提高,在软件(离子注入材料表面改性技术)方面,也有待进一步深化和细化,其应用范围也有待不断扩大。

国内外发展概况美国的I SM Tech.公司是国际上生产M EVVA源离子注入机的专业公司,在综合技术水平上处于国际领先。上世纪90年代以来先后研制生产了几种不同类型的商用M EVVA源离子注入机。一种多M EVVA源离子注入机,在真空室里配备了4台AVIS80-75MEV- VA源,总束流可达300mA,总束斑面积可打12,000cm2,是世界上束流最强的M EVVA源离子注入机。欧美工业发达国家的离子注入表面处理技术这一新兴产业发展情况良好,如美国的S PIRE公司和ISM Tech.公司、英国的A EA Industrial Tech.,Tec Vac和Tech-Ni-Plant、法国的N itruvid和IBS、西班牙的INASMET和AIN、德国的M AT和丹麦D TI Tribology Centre等均已经取得了可观的经济效益和社会效益,起了很好的示范作用。他们已经将金属离子注入的费用降低到$0.05-0.5/cm2的水平,可以被包括医疗、航空、航天、机械等广泛的领域和部门所接受。

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