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集成电路掩模设计:基础版图技术

《集成电路掩模设计:基础版图技术》是清华大学出版社出版的图书,作者是Christopher Saint。

集成电路掩模设计:基础版图技术基本信息

集成电路掩模设计:基础版图技术造价信息

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区域式漏水适配

  • RT-LDS,配件:7.5米漏水绳
  • 13%
  • 深圳市瑞尔时代科技有限公司
  • 2022-12-06
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  • 42寸
  • 海尔
  • 13%
  • 深圳市首舟科技有限公司
  • 2022-12-06
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解板

  • 1.2*1219*C SECCN
  • t
  • 邯郸原厂
  • 13%
  • 佛山市顺德区盈通贸易有限公司
  • 2022-12-06
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解板

  • 0.8*1219*C SECCN
  • t
  • 邯郸原厂
  • 13%
  • 佛山市顺德区盈通贸易有限公司
  • 2022-12-06
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解板

  • 0.9*1219*C SECC
  • t
  • 邯郸原厂
  • 13%
  • 佛山市顺德区盈通贸易有限公司
  • 2022-12-06
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  • kW·h
  • 梅州市大埔县2022年2季度信息价
  • 建筑工程
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  • kW·h
  • 梅州市蕉岭县2022年2季度信息价
  • 建筑工程
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  • kW·h
  • 梅州市大埔县2022年1季度信息价
  • 建筑工程
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  • kW·h
  • 梅州市蕉岭县2022年1季度信息价
  • 建筑工程
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  • kW·h
  • 梅州市大埔县2021年3季度信息价
  • 建筑工程
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集成电路控制中心

  • 800×800×1500
  • 1台
  • 1
  • 百海(深圳)水处理有限公司
  • 中高档
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  • 2021-06-15
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集成电路测试仪

  • 1ST6500
  • 7台
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-11-02
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集成电路测试仪

  • 1CT-33C
  • 4台
  • 1
  • 普通
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2015-08-05
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集成电路测试仪

  • GUT-660A
  • 9台
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 不含运费
  • 2015-07-31
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集成电路测试仪

  • GVT-6600
  • 4台
  • 1
  • 普通
  • 含税费 | 含运费
  • 2015-04-07
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集成电路掩模设计:基础版图技术常见问题

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集成电路掩模设计:基础版图技术文献

基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计 基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计

基于纳米工艺的数字集成电路电源版图设计

格式:pdf

大小:573KB

页数: 4页

在纳米工艺的数字集成电路电源版图设计中,根据芯片布局合理进行电源布局、电源个数以及电源布线等方面设计,确保每一个电压域都有完整的电源网络。在电源分析时从电压降、功耗及电迁移评估分析,使设计好的电源网络符合电源预算规划。在可靠性设计时采取布线优化、添加去耦电容、优化封装设计等方法,提高电源抗干扰能力,从而降低电压降、提高电源的完整性和可靠性。

集成电路论文 集成电路论文

集成电路论文

格式:pdf

大小:573KB

页数: 15页

集成电路论文 第 1页 智能配电网中电力变压器的应用研究 摘要 为应对电力系统在新世纪面临的分布式电源并网、电网利用系数低,高可靠性,高 电能质量要求以及数字化技术应用等诸多挑战, 智能电网成为未来电网的主要发展方向。 智能电网的建设离不开高级电力电子装置, 因此电力电子变压器的研究对于建设绿色电 网,智能电网具有重要的意义。 论文首先对智能电网的概念及功能特点进行了介绍, 其 次,论文分析了电力电子变压器的基本原理和拓扑结构, 最后,论文就 AC/AC和AC /DC /AC这两种典型的电力电子变压器在智能配电网上的应用进行了研究。首先提出 了应用在配电网的基于 AC/AC型电力电子变压器的自动电压稳压器。其次,论文分析 了应用在智能配电网中的基于 AC/DC/AC型电力电子变压器的电能质量控制方案, 构 建了系统的数学模型,详细分析了电力电子变压器输入级、中间隔离级和输出级的控制 策略。

集成电路版图特征

集成电路版图是集成电路设计中最底层步骤物理设计的成果。物理设计通过布局、布线技术将逻辑综合的成果转换成物理版图文件。

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集成电路版图设计(第2版)内容简介

集成电路版图是设计与集成电路工艺之间必不可少的环节。本书从半导体器件的理论基础入手,在讲授集成电路制造工艺的基础上,循序渐进地介绍了集成电路版图设计的基本原理与方法。

以介绍集成电路版图设计为主的本书,主要内容包括半导体器件和集成电路工艺的基本知识,集成电路常用器件的版图设计方法,流行版图设计软件的使用方法,版图验证的流程以及集成电路版图实例等。

《集成电路版图设计(第2版)》适合作为高等院校微电子技术专业和集成电路设计专业版图设计课程的教材,也可作为集成电路版图设计者的参考书。

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集成电路版图设计规则简介

集成电路制作中,各类集成元件、器件及其间的隔离与互连等是在一套掩模版的控制下形成的。一套掩模版通常包括 4~10块分版。每一块分版是一组专门设计的图形的集合,整套版中的各分版相互都要能精密地配合和对准。整套掩模版图形(简称版图)的设计,是把电路的元件、器件和互连线图形化,用它来控制制备工艺,使集成电路获得预期的性能、功能和效果。例如,增强型负载硅栅N沟道MOS型集成电路需要4块分版,分别用以确定有源区、多晶硅、接触孔和铝连线。4组图形的规则是:

有源区条宽与间距 6μm/6μm

多晶硅条宽与间距 8μm/6μm

接触孔尺寸 6μm×6μm

铝连线条宽与间距 6μm/6μm

多晶硅-有源区套刻量(ɑ) 2μm

多晶硅出头长度(b)4μm

接触孔-有源区套刻量(c) 2μm

接触孔-有源区上多晶硅套刻量(d) 4μm

接触孔-隔离区上多晶硅套刻量(e) 2μm

铝连线-接触孔套刻量(f) 2μm

不同类型的集成电路所需要的分版数不同,具体的版图设计规则也有差异。但制定版图设计规则的基本原则则是一致的:①需要考虑工艺设备状况(如光刻机的分辨率和对准精度)和工艺技术水平(如工艺加工中,图形尺寸侧向变化量和控制);②避免寄生效应对集成电路的功能与电学性能的有害影响。

通常称允许的最小图形尺寸的平均值为特征尺寸。它是对集成电路集成密度的度量,是集成电路工艺技术水平的一种标志。2100433B

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