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制备光刻版;微纳图形光刻。 2100433B
最小线宽0.7μm;曝光效率110 mm2/min。
首先检查冷却水是否通畅,然后检查水压开关是否正常,如果都正常,试试手动出光,如果都不出光,电流表电流还有,说明激光管坏了,如果没电流,再看看激光电源风扇是否运转正常,如果都正常,说明激光电源坏了
摄影要注意的问题有构图,构图要合理,突出主题,物体分布合理。常用的是九宫格构图法。色彩也十分重要,色彩的搭配,曝光控制,色彩还原。虚实结合,利用景深创造已经。 摄影分好多,风光...
调透镜,调激光器姿态。等等
紫外线曝光机灯源系统设计
紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,灯源是影响印制板曝光质量的主要因素。提供一种曝光机灯源系统设计方案,包括灯源的调光电路选择、三菱PLC扩展模块模的使用、以及控制灯箱抽风风扇的PLC程序。
紫外线曝光机灯源系统设计
紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,灯源是影响印制板曝光质量的主要因素。本文提供一种曝光机灯源系统设计方案,包括灯源的调光电路选择、三菱PLC扩展模块模的使用、以及控制灯箱抽风风扇的PLC程序。
小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3,通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案,而无需掩膜版,专为实验室设计开发,适用于各种实验室桌面。
Focus Lock自动对焦
Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。
直写前预检查
软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。
标记物自动识别
点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。
光学轮廓仪
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。
简单的直写软件
MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。
Clewin 掩模图形设计软件
可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)
可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
书写范围只由基片尺寸决定
该设备由计算机控制高精度激光束扫描,在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形,从而把设计图形直接转移到掩模上。激光直写系统的基本结构如图所示,主要由He-Cd激光器、声光调制器、投影光刻物镜、CCD摄像机、显示器、照明光源、工作台、调焦装置、He-Ne激光干涉仪和控制计算机等部分构成。激光直写的基本工作流程是:用计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据;将数据转换成直写系统控制数据,由计算机控制高精度激光束在光刻胶上直接扫描曝光;经显影和刻蚀将设计图形传递到基片上。 2100433B