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激光直写曝光机

激光直写曝光机是一种用于物理学、电子与通信技术领域的工艺试验仪器,于2016年4月29日启用。

激光直写曝光机基本信息

激光直写曝光机主要功能

制备光刻版;微纳图形光刻。 2100433B

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激光直写曝光机造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

激光投影机

  • 700W
  • 梵朗
  • 13%
  • 深圳市梵朗照明科技有限公司江门办事处
  • 2022-12-08
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激光喷泉

  • 品种:激光喷泉;规格型号:12KW;
  • 锦泉
  • 13%
  • 河北锦泉园林景观工程股份有限公司
  • 2022-12-08
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激光喷泉

  • 24V,9W
  • 13%
  • 深圳凡尊照明电器有限公司
  • 2022-12-08
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激光内雕玻璃

  • 厚度(mm):10;品种:雕刻玻璃;宽度(mm):无;长度(mm):无
  • 嘉颢
  • 13%
  • 广州嘉颢特种玻璃有限公司广西直销
  • 2022-12-08
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激光内雕玻璃

  • 厚度(mm):8;品种:雕刻玻璃;宽度(mm):无;长度(mm):无
  • 嘉颢
  • 13%
  • 广州嘉颢特种玻璃有限公司广西直销
  • 2022-12-08
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年4季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年1季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2005年3季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年3季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年2季度信息价
  • 建筑工程
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曝光

  • 曝光灯,含安装
  • 5台
  • 3
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2021-08-24
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50WRGB彩色激光机

  • 50W RGB彩色激光机
  • 1台
  • 1
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2022-11-16
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激光投影机

  • 1.光源:采用ALPD单色激光荧光粉色轮成像技术,纯激光光源尺寸范围:30-300英寸
  • 1台
  • 1
  • 不限
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2020-09-25
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老赖曝光模块

  • 1.名称:老赖曝光模块2.功能与用途:与集控中心软件配套使用
  • 1套
  • 2
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2021-04-15
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高清激光投影机

  • 6000流明激光光源投影分辨率1920×1200寿命≥20000小时
  • 1台
  • 1
  • 高档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2020-01-03
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激光直写曝光机技术指标

最小线宽0.7μm;曝光效率110 mm2/min。

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激光直写曝光机常见问题

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激光直写曝光机文献

紫外线曝光机灯源系统设计 紫外线曝光机灯源系统设计

紫外线曝光机灯源系统设计

格式:pdf

大小:1.4MB

页数: 1页

紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,灯源是影响印制板曝光质量的主要因素。提供一种曝光机灯源系统设计方案,包括灯源的调光电路选择、三菱PLC扩展模块模的使用、以及控制灯箱抽风风扇的PLC程序。

紫外线曝光机灯源系统设计 紫外线曝光机灯源系统设计

紫外线曝光机灯源系统设计

格式:pdf

大小:1.4MB

页数: 3页

紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,灯源是影响印制板曝光质量的主要因素。本文提供一种曝光机灯源系统设计方案,包括灯源的调光电路选择、三菱PLC扩展模块模的使用、以及控制灯箱抽风风扇的PLC程序。

无掩膜激光直写光刻机概念

小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3,通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案,而无需掩膜版,专为实验室设计开发,适用于各种实验室桌面。

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无掩膜激光直写光刻机技术特征

Focus Lock自动对焦

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

光学轮廓仪

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。

简单的直写软件

MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件

可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

书写范围只由基片尺寸决定

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小型台式激光直写系统主要功能

该设备由计算机控制高精度激光束扫描,在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形,从而把设计图形直接转移到掩模上。激光直写系统的基本结构如图所示,主要由He-Cd激光器、声光调制器、投影光刻物镜、CCD摄像机、显示器、照明光源、工作台、调焦装置、He-Ne激光干涉仪和控制计算机等部分构成。激光直写的基本工作流程是:用计算机产生设计的微光学元件或待制作的VLSI掩摸结构数据;将数据转换成直写系统控制数据,由计算机控制高精度激光束在光刻胶上直接扫描曝光;经显影和刻蚀将设计图形传递到基片上。 2100433B

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