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继电保护装置的简介 [编辑本段] 当电力系统中的电力元件(如发电机、线路等)或电力系统本身发生了故障危及电力系统安全运行时,能够向运行值班人员及时发出警告信号,或者直接向所控制的断路器发出跳闸命令以终...
继电保护装置调试只包含保护装置本体及二次回路的调试,没有包括:继电器过流、过热、速断、馈线回路等一个单元中所有设备的调试 ,这是系统调试。
电力系统继电保护的基本任务是:(1) 自动、迅速、有选择性地将故障元件从电力系统中切除,使故障元件免于继续遭到破坏,保证其他无故障部分迅速恢复正常运行。(2) 反应电气元件的不正常运行状态,并根据运行...
继电保护装置规程
继电保护装置 检修规程 乐山金石黄丹水电有限公司 二 00八年六月 批准:桂利 审核:许军 校对:李红霞 编写:王红君 二 00八年六月 1 目录 一、 总则 ......................................................................................................................1 1、主题内容与适用范围 .......................................................................................................................................1 2、 引用标准 ..........................................
继电保护装置动作记录文档
继电保护装置动作记录 日期 动作设备 动作原因 动作时间 恢复时间 记录人 备注 镇艺煤矿 地面变电所继电保护试验记录 镇艺煤矿编制 二零一四年
通常简称功率晶体管。 其中大容量型又称巨型晶体管,简称GTR。功率晶体管一般为功率集成器件,内含数十至数百个晶体管单元。图1是功率晶体管的符号,其上e、b、c分别代表发射极、基极和集电极。按半导体的类型,器件被分成NPN型和PNP型两种,硅功率晶体管多为前者。
改变栅压可以改变沟道中的电子密度,从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道,加上适当的偏压,可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。统称为PMOS晶体管。
P沟道MOS晶体管的空穴迁移率低,因而在MOS晶体管的几何尺寸和工作电压绝对值相等的情况下,PMOS晶体管的跨导小于N沟道MOS晶体管。此外,P沟道MOS晶体管阈值电压的绝对值一般偏高,要求有较高的工作电压。它的供电电源的电压大小和极性,与双极型晶体管——晶体管逻辑电路不兼容。PMOS因逻辑摆幅大,充电放电过程长,加之器件跨导小,所以工作速度更低,在NMOS电路(见N沟道金属—氧化物—半导体集成电路)出现之后,多数已为NMOS电路所取代。只是,因PMOS电路工艺简单,价格便宜,有些中规模和小规模数字控制电路仍采用PMOS电路技术。
PMOS集成电路是一种适合在低速、低频领域内应用的器件。PMOS集成电路采用-24V电压供电。如图1所示的CMOS-PMOS接口电路采用两种电源供电。采用直接接口方式,一般CMOS的电源电压选择在10~12V就能满足PMOS对输入电平的要求。
MOS场效应晶体管具有很高的输入阻抗,在电路中便于直接耦合,容易制成规模大的集成电路。
晶体管,(transistor),是一种固体半导体器件,可以用于检波、整流、放大、开关、稳压、信号调制和许多其它功能。晶体管作为一种可变开关,基于输入的电压,控制流出的电流,因此晶体管可做为电流的开关,和一般机械开关(如Relay、switch)不同处在于晶体管是利用电讯号来控制,而且开关速度可以非常之快,在实验室中的切换速度可达100GHz以上。严格意义上讲,晶体管泛指一切以半导体材料为基础的单一元件,包括各种半导体材料制成的二极管、三极管、场效应管、可控硅等。晶体管有时多指晶体三极管。
晶体管全称双极型三极管(Bipolar junction transistor,BJT)又称晶体三极管,简称三极管,是一种固体半导体器件,可用于检波、整流、放大、开关、稳压、信号调制等。晶体管作为一种可变开关.基于输入的电压,控制流出的电流,因此晶体管可用作电流的开关。和一般机械开关(如Relay、switch)不同的是:晶体管是利用电讯号来控制,而且开关速度非常快,在实验室中的切换速度可达100吉赫兹以上。
晶体管按其结构分为NPN型和PNP型两类。晶体管结构与符号如图所示。它们都有三个区:集电区、基区、发射区;从这三个区引出的电极分别称为集电极c(Collector)、基极b(Base)和发射极e(Emitter)。两个PN结:发射区与基区之间的PN结称为发射结J,基区与集电区之间的PN结称为集电结J。
两种管子的电路符号的发射极箭头方向不同,箭头方向表示发射结正偏时发射极电流的实际方向。
应当指出,晶体管绝不是两个PN结的简单连接。它采用了以下制造工艺:基区很薄且掺杂浓度低,发射区掺杂浓度高,集电结面积比发射结的面积大等。这些都是为了保证晶体管具有较好的电流放大作用。
由于晶体管在结构上有这些特点,所以不能用两个二极管背向连接来说明晶体管的作用,在使用时发射极和集电极一般不能互换。
晶体管种类很多。除上述的按结构分为NPN型和PNP型外,按工作频率可分为低频管和高频管;按功率大小可分为小功率管、中功率管和大功率管;按所用
半导体材料
分为硅管和锗管;按用途分为放大管和开关管等。晶体管命名方法参阅附录B表B一-1。例如3AX31B为锗材料PNP型低频小功率晶体管,序号为31,规格号为B。3DG6C为硅材料NPN型高频小功率管,序号为6,规格号为C。3DA2A为硅材料高频大功率晶体管,序号为2,规格号为A。
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