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铝靶材有平面铝靶材和旋转铝靶材之分
平面铝靶材是片状的,有圆形、方形等。
旋转铝靶材是管状的,利用效率高,但不易加工,要通过高纯铝挤压、拉伸、校直热处理,机加工等多种加工工序才能最终制得铝旋转靶材成品。
1、铝的生产和提纯 :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的第一个要求也是最重要的要求就是纯度要高,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,国内最高纯度在99.9999%(6N)左右。
2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。
3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。
铝靶材
物理性质
元素符号 |
Al靶材 |
元素符号 |
Al靶材 |
相对分子质量 |
26.98 |
蒸发潜热 |
11.4 |
原子体积 |
9.996*10-6 |
蒸汽压 |
660/10-8-10-9 |
晶型 |
Fcc面心立方 |
电导率 |
37.67 |
堆积密度 |
74% |
电阻系数 |
0.115 |
配位数 |
12 |
吸收光谱 |
0.20*10-24 |
晶格能 |
200*10-7 |
泊松比 |
0.35 |
密度 |
2.7 |
可压缩性 |
13.3mm2/MN |
弹性模量 |
66.6Gpa |
熔点 |
660.2 |
剪切模量 |
25.5Gpa |
沸点 |
约2500 |
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适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等,可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等,相对其它靶材,铝靶材的价格较低,所以铝靶材是在能满足膜层的功能前提下的首选靶材料。
靶材名称 |
铝靶材 |
|||
常用纯度 |
99.9%(3N) |
99.99%(4N) |
99.999%(5N) |
99.9999%(6N) |
常用尺寸 |
100*40mm |
|||
最大尺寸 |
长3000mm |
随着电子行业的飞速发展,对铝靶材的要求也在一步步增加,铝靶材的纯度和市场规范化、产品标准化还有待国家相关技术的员的共同努力!
Low-E玻璃镀膜用硅铝靶材的制备方法分析
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