2020年7月，苏州苏大维格光电科技股份有限公司入选“2019江苏百强创新企业榜单”。

2001年底，苏州苏大维格数码光学有限公司SVG DigitOptics在苏州工业园区国际科技园注册。2002年5月，正式投入运营。

成立初期，致力于“数码激光全息制版系统HoloMaker series”研发、激光全息制版技术服务、光学防伪解决方案、产业化应用。其中，HoloMaker成为中国内地、中国香港地区及韩国、印度等的激光全息行业关键设备，成功促进了中国光学防伪与包装行业技术进步。为此，02年初，获中华人民共和国科技进步二等奖，这是中国激光全息行业颁发最高奖项。公司创始人、董事长是中国光学全息工程领域的著名专家，兼任中国光学学会光信息处理与全息专业委员会主任。

2003-2004年，研制成功“定向光变色膜（OVCF）”原版制造技术，成功应用于我国第二代身份证的物理视读膜。同年，研发成功大型纳米压印设备（平压平和卷对卷）。

2005年，自主研发并建立了中国首条“定位镭射转移材料生产线”，开创了“定位镭射印刷转移纸张”在烟草印刷包装上的应用先河，“定位激光转移纸张”获得中国专利授权。同年，公司获江苏省高新技术企业认定，通过ISO9001质量管理体系认证。取得了一批激光光刻领域的发明专利权。

2006年，成立“江苏省数码激光成像与显示工程研究中心”（科技厅、财政厅批准），主要致力于超精密激光图形关键制造技术（光刻、直写、刻蚀）和装备、新型平板显示背光模组关键材料、光学防伪解决方案、手机导光薄膜等制造技术的研发与应用。

2006年，研制成功“宽幅智能激光SLM光刻设备工程样机并投入应用，首家实现了大幅面、高速度的亚微米全息图像的快速光刻，多项中国发明专利授权。企业获“苏州工业园区十佳科技创新小巨人”、“2004-2006年度苏州工业园区民营科技创新十强企业”称号。

2007年，建立苏州工业园区博士后工作站维格分站。建立镭射转移膜产能；研制成功HoloScanV紫外激光干涉光刻设备，这是国际上领先水平的亚微米激光直写系统。苏大维格具有了国际一流的超精密图形的设计与制造能力。

2007年，研制成功“DMD并行激光光刻系统MicroLab”，具有超过10,000dpi的图形分辨率，主要应用于精密图形设计制造（导光结构、亚微米图形），研发成功手机导光薄膜（LGF），并成立苏州维旺科技有限公司，专注于手机及平板显示光学材料研发与制造。

2008年8月，苏大维格数码光学有限公司改制成为“苏州苏大维格光电科技股份有限公司”SVG Optronics，将业务领域扩大到“镭射转移材料”、“平板显示材料”、“高端光学防伪解决方案”和“先进制造装备”（超精密图形激光光刻设备，纳米压印工艺设备、LIGA技术应用等”。配合公安部相关研究院所研发DMD双通道光变色膜，在我国“新驾驶证”“机动车行驶证”上全面应用。

2008年9月，苏大维格的“宽幅智能激光SLM光刻系统与应用”荣获江苏省科技进步一等奖（全省第一名）。

2008年11月，苏大维格入选“苏州市50家首批科技创新试点企业”。研发成功“导光薄膜”并应用于手机keypad。配合国家邮政印制局推出首套采用“定位镭射图形”29届北京奥运会开幕式纪念邮票等（Stamp in commenoration of Openning ceremony of XXIX Beijing Olympic）。

2009年3月，HoloMakerIII-b出口日本；研制成功“无缝彩虹膜压印设备和彩虹膜材料；大型无缝镭射薄膜压印设备出口印尼等国。

2009年4月，“激光直写设备iGrapher200”投入应用，具有350nm以上图形直写能力，支持复杂微结构图形制造。

2009年5月，研制成功“微透镜阵列光学薄膜”，建立了微透镜阵列的批量制造能力。这是中国第一个集微透镜阵列薄膜研发与制造能力的单位。研制成功具有突破意义的“ActiveMatrix”动态图形光学防伪薄膜，拟用于高层（公安、金融等）防伪领域。

2009年7月，苏大维格的“微镜Fresnel技术”应用于茅台“白金酒”防伪包装。

2010年5月，研制成功双面UV微纳结构动态光学放大膜。

2010年10月，研制成功超大幅面（1500mmx1300mm）激光图形化设备，填补了行业空白。