热反射镀膜玻璃，又称阳光控制膜玻璃，是在优质浮法玻璃表面用真空磁控溅射的方法镀一至多层金属或化合物薄膜而成。

薄膜的主要功能是按需要的比例控制太阳直接辐射的反射、透过和吸收，并产生需要的反射颜色。热反射镀膜玻璃因此而具有以下特点： 有效限制太阳趋势辐射的入射量，遮阳效果明显。丰富多彩的抽射色调和极佳的装饰效果。对室内物体和建筑构件具有良好视线遮蔽功能。较理想的可见光透过比和反射比。减弱紫外光的透过。

热反射镀膜玻璃的生产工艺一般分为离线和在线两大类。离线法生产热反射镀膜玻璃的工艺主要有真空热蒸发和磁控溅射等。在线生产热反射镀膜玻璃的工艺目前主要有浮法在线喷涂法。

真空蒸发法：真空蒸发法是PVD技术中发展最早、成本最低的方法。该法是将合金丝材料装在钨螺旋蒸发器上，在高真空的情况下（真空度达10^-2Pa），通过大电流、短时间的快蒸，使合金丝原子或分子沉积到玻璃表面上，从而形成牢固的合金膜。采用真空蒸发镀膜技术生产镀膜玻璃的工艺流程为：玻璃切片→清洗→蒸发镀膜→高温烘烤斗成品包装。蒸发镀膜过程中，真空室真空度、蒸发电压和时间、合金丝材料等对膜层的透光性能、反射性能以及膜层的色泽有重要的影响。真空蒸发法制备镀膜玻璃的投资小，成本低，但只能镀制单层金属膜，装饰效果不佳，而且玻璃膜层均匀性、耐酸碱性和抗变色性能都较差。

磁控溅射法：真空磁控溅射镀膜方法是将成膜材料作为靶子，在阴极上通550 V的负高电压后，当真空度达到一定程度时，便产生辉光放电等离子体，通人真空室的溅射气体离解成带正电的离子和电子，带正电的气体离子被阴极表面吸引，并冲击靶子，使靶子发射出原子，然后沉积到玻璃表面上，逐渐积累形成膜，磁铁产生的磁场把从阴极表面发射的再生电子束缚住，这样，使电子和气体原子磁控机会增加，而产生更多的离子，提高了溅射速度。真空磁控溅射镀膜法按使用电源的不同可分为直流磁控溅射镀膜法及射频磁控溅射镀膜法。按磁控溅射镀膜玻璃的工艺为：选片、切片→清洗烘干→抽真空→溅射→真空转换。

真空磁控溅射镀膜法能根据不同需要制造出具有多膜层和不同光学特性的镀膜玻璃。该法的操作参数易于控制，产品的质量稳定性高。真空磁控溅射镀膜法所具备的优异特性，使其很快发展为国内外生产镀膜玻璃的最主要方法。目前发达工业国家普遍采用该技术生产镀膜玻璃。但该法也存在占地面积大、设备投资大、生产率低、经营成本高等缺点，而且磁控镀膜玻璃制品多数不能进行钢化等深加工处理。

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