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碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应

《碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应》,是由谢作伟等人完成的科研项目。 

碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应基本信息

碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应获奖记录

2008年度国家自然科学奖二等奖。

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碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应造价信息

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金属色(油性)

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热转印机印机

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快速反应

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快速反应

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碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应参与人员

主要完成人:

谢作伟(香港中文大学)

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碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应常见问题

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碳硼烷及其金属碳硼烷的合成、结构和反应文献

低碳微合金化含硼冷镦钢的冲击性能 低碳微合金化含硼冷镦钢的冲击性能

低碳微合金化含硼冷镦钢的冲击性能

格式:pdf

大小:946KB

页数: 5页

通过对不同B含量的低碳硼钢和Nb、V微合金化低碳硼钢的冲击实验,研究了B含量及Nb、V微合金化对低碳硼钢冲击性能的影响.结果表明:0.0006%~0.0015%的B将提高热处理状态钢的冲击韧性,B质量分数超过0.003%将降低钢的冲击韧性.Nb、V复合微合金化同时加入适量Al可显著提高热处理状态低碳硼钢的冲击韧性.Ti质量分数超过0.03%对低碳硼钢和微合金硼钢的冲击性能不利.

高硼低碳耐磨合金磨料磨损性能研究 高硼低碳耐磨合金磨料磨损性能研究

高硼低碳耐磨合金磨料磨损性能研究

格式:pdf

大小:946KB

页数: 未知

借助光学显微镜和SEM电镜观察,运用磨损试验手段及对比研究法,研究了高硼低碳耐磨合金的磨料磨损性能。结果表明,在中、低冲击工况下,高硼低碳耐磨合金的磨损质量损失、相对磨损率均小于高铬铸铁和高锰钢,且磨面磨损形成的沟槽少,压坑小,这显示出了良好的耐磨料磨损性。

有机金属碳硼烷配位化学的研究项目摘要

碳硼烷化合物及其衍生物长期被应用于燃料、核辐射防护材料、分子识别、非线性光学材料和包括硼中子捕获癌症治疗在内的医药领域,所以此方面的研究始终活跃在现代化学的前沿领域。本项目在认识过渡金属化合物的结构和电子构型特性的基础上,开发出一系列结构新颖,含有S,S-,C,N-,C,C-型碳硼烷双齿配体的新型有机金属配位化合物。一方面,提出合成有机金属碳硼烷配位化合物的通用方法,研究其化学反应特征、配位结构特点;开发碳硼烷配位化合物新的反应,并通过制备新型含有金属-金属之间成键的同核或异核含碳硼烷配位化合物、设计合成碳硼烷配体的有机金属多核配位聚合物等途径拓宽碳硼烷过渡金属配合物的化学应用范围。另一方面,在设计合成一系列结构新颖碳硼烷过渡金属化合物的基础上,研究其潜在的催化应用性能,以及潜在的物理性质。并通过对这类化合物结构与性能关系的研究,合成和开发具有良好性能和应用前景的功能材料。

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有机金属碳硼烷配位化学的研究基本信息

批准号

20771028

项目名称

有机金属碳硼烷配位化学的研究

项目类别

面上项目

申请代码

B0102

项目负责人

金国新

负责人职称

教授

依托单位

复旦大学

研究期限

2008-01-01 至 2010-12-31

支持经费

27(万元)

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基于选择性硼氢键活化的铱催化碳硼烷硼基化反应研究获进展

碳硼烷是由两个CH 和十个BH 顶点组成的笼状分子,被视为苯的三维类似物,具有超芳香性及很好的化学和热稳定性,在生物医药、超分子材料等领域有着重要的用途。例如,利用其单位分子内的高硼含量作为硼中子俘获疗法(BNCT)试剂,利用其高热稳定性用于耐热硅硼橡胶聚合物;其它用途还包括超分子材料、分子机器、分子开关、光学材料和过渡金属催化剂等方面。碳硼烷最大的特点是可以在碳和硼顶点上引入取代基取代氢原子,从而得到成员众多的碳硼烷衍生物家族。相对于发展已较为成熟的碳硼烷碳顶点官能团化,硼顶点活化及进一步衍生化的研究较为滞后,硼-取代碳硼烷化合物的种类及数量目前都非常有限,这大大限制了对其性质和应用的研究。新发展的基于直接B–H 键活化策略的化学合成可以简化原料、缩短反应流程,从而提高合成效率和原子经济性。而目前碳硼烷化学领域的重大挑战在于如何在10个化学及立体环境非常相似的硼顶点间实现选择性活化及官能团化。

中国科学院上海有机化学研究所沪港化学合成联合实验室谢作伟课题组一直致力于发展通过简单过渡金属催化的方式实现碳硼烷BH位点的选择性官能团化方法。而针对硼顶点间的选择性问题,他们提出了无导向基团参与,用金属催化剂直接控制反应位点的全新B–H键官能团化策略。由于碳和硼元素的电负性差异,碳硼烷上电子密度表现为:B(3,6) < B(4,5,7,11) < B(8,10) < B(9,12),这也反映出硼顶点亲电取代反应的相对活性。他们首先采用无导向基团策略,利用远端B(8,9,10,12)-位顶点较为富电子的特点,发展了金属钯催化的碳硼烷B(8,9,10,12)-位四氟化反应(J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 12192);对处于中间的B(4,5,7,11),他们采用导向基辅助的金属催化B–H键直接活化及官能团化方法(J. Am. Chem. Soc. 2014, 136, 15513)。然而,对于近端的B(3,6)-位双官能团化,传统方法需要通过复杂的两次脱硼-盖帽过程实现,过渡金属催化B–H键直接活化转化的方式还尚未有报道。

最近,该课题组采用无导向基团策略,利用近端B(3,6)-位较为缺电子的特性,以金属铱作为催化剂,成功地以优秀的收率和高区域选择性实现了邻-碳硼烷B(3,6)–H键的双硼基化反应(Nature. Commun. 2017, 8, 14827)。他们通过使用2-甲基吡啶作为单齿氮配体,以联硼酸频那醇酯(B2Pin2)作为硼源,完成了这一铱催化选择性硼基化过程。一系列B(3,6)-硼基化邻-碳硼烷衍生物的高效合成证明了此反应具有良好的普适性。另一方面,通过在邻-碳硼烷的2-位碳顶点引入大位阻硅基来阻断所有与此顶点相邻反应位点(3,6,7,11-位)的反应,可以进一步实现铱催化的邻-碳硼烷B(4)-位的选择性硼基化过程。并且所得到的硼基化碳硼烷能够方便地转化为含有B–X键(X = O、N、C、Br和Cl)的碳硼烷衍生物,成功实现碳硼烷的硼-芳基化、烯丙基化、卤化、酯化、氨基化、叠氮化等过程,为高效实现碳硼烷区域选择性官能团化提供了一条新的途径。

上述研究工作得到国家自然科学基金委、中科院青年创新促进会、香港裘槎基金会和国家自然科学基金委与香港研究资助局联合项目的资助。

图: 铱催化邻-碳硼烷选择性硼基化反应

来源:中国科学院上海有机化学研究所

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