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石英玻璃抛光表面层性质探索
石英玻璃抛光表面层性质探索
对采用传统沥青和聚氨酯抛光技术以及磁流变加工技术所加工的石英玻璃元件表面进行了实验。实验发现,传统抛光所加工石英元件表面层硬度大于磁流变(MRF)加工的表面层,其可能为传统加工与MRF不同的加工机理所导致。传统加工中材料的去除主要靠抛光粉颗粒与玻璃表面的正压力作用,其微观压强很高,足以引起石英的硬化或致密化。而MRF主要是剪切力引起材料去除,正压力很小,不能够达到引起石英致密化所需要的压强。抛光过程中,会同时发生机械作用的致密化和化学作用的离子交换,最终的表面性质由机械和化学作用同时决定。在MRF加工中,由于使用剪切力去除材料,因此机械致密化作用较弱,而化学作用较强,导致石英表面变小,折射率下降;而传统加工中机械作用较强,因此引起石英玻璃表面硬化,折射率增大。
用统计的方法研究光拍法测光速实验中的电流表达式
用统计的方法研究光拍法测光速实验中的电流表达式
根据光电子具有泊松分布的特点得到一定光强的光入射到光电探测器后,光电流的表达式,并对光电流的起伏误差进行了分析。