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激光刻字
PS在景观石上刻字
PS在景观石上刻字 演示效果如下 1、准备好文字图片，将文字扣成透明。准备好景观石图片， PS打开。将文字移 动至景观石文件， Ctrl+T调整文字大小至合适。 2、使用 Ctrl+ 鼠标左键，选中文字图层，将文字图层隐藏，查看效果图 3、选中背景图层，使用 Ctrl+J 快捷键，新建一个图层 2，然后下方选择【混合 模式】 4、图层样式中选择【斜面与浮雕】，勾选，右侧一次选择【内斜面】【雕刻清 晰】深度调到合适，方向选择【下】大小题调到最大 5、左边继续向下找到【颜色叠加】，选择颜色为红色，点击【确定】然后调整 不透明度至合适，点击【确定】 6、最终效果图
相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术
相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术
掺Tm3+光纤激光器在工业、医疗、科技及军事领域具有重要应用前景。光纤布拉格光栅(FBG)是构成光纤激光器的重要元件。但掺Tm3+光纤不具备光敏性,利用紫外脉冲激光很难在其中刻写FBG,即使采用增敏技术提高其光敏性,获得的FBG的折射率调制量也很小,尚不能满足应用要求,阻碍了掺Tm3+光纤激光器全光纤化的发展。以相位掩模法的基本原理为基础,从理论上分析了以飞秒激光为刻写光源的技术要点,总结出与传统紫外激光刻写技术之间的差异及需要注意的问题。建立了飞秒激光相位掩模法刻写光纤光栅的实验系统,利用飞秒激光相位掩模法在非光敏光纤上刻写Bragg光栅,在非光敏掺Tm3+硅基光纤上获得了衍射阶次为二的光纤Bragg光栅,并给出了显微镜下观察到的光栅结构。实验结果证明:飞秒激光可以将FBG刻写入非光敏性硅基光纤,并且具有成栅时间短的优点。