精品文献
氢氟酸刻蚀玻璃原理
耐氢氟酸/硝酸玻璃钢贮罐的研制
耐氢氟酸/硝酸玻璃钢贮罐的研制
本文通过对不同类型树脂、增强材料的选择，解决了玻璃钢贮罐在６５℃以下氢氟酸／硝酸混合介质中的腐蚀问题，并研制出多种规格的玻璃钢贮罐。
商品有机玻璃片微结构的深刻蚀研究
商品有机玻璃片微结构的深刻蚀研究
研究应用O2反应离子刻蚀(RIE)直接深刻蚀商用有机玻璃(PMMA)片,以实现微结构的三维微加工,工艺简单,加工成本较低,为微器件的高深宽比加工提出了新方法。试样采用Ni作掩膜,以普通的光刻胶曝光技术和湿法刻蚀法将Ni掩膜图形化。工作气压、刻蚀功率等工艺参数对刻蚀速率影响较大。在刻蚀过程中,掩膜上的金属粒子会被刻蚀气体离子轰击而溅射散落出来,形成微掩膜效应。利用这种RIE技术,在适当的溅射功率及气压下,刻蚀速率较快,且获得了较陡直的微结构图形,刻蚀深度达120μm。