超薄硅双面抛光片抛光工艺技术
MEMS器件、保护电路、空间太阳电池等的制作需要使用硅双面抛光片,并且要求抛光片的厚度很薄,传统的硅抛光片加工工艺已经不能满足这一要求。介绍了一种用于超薄硅单晶双面抛光片加工的抛光工艺方法。通过对硅片抛光机理[1]、抛光方式、抛光工艺的研究和对抛光工艺试验结果的分析,解决了超薄硅单晶双面抛光片在加工过程中碎片率高、抛光片背面表面质量不易控制的技术难题,研制出了高质量的超薄硅单晶双面抛光片。
反光油漆
反 光 漆 技 术 指 导 反光漆是选用美国反光体、芳香烷烃为溶剂、丙烯酸树脂为连接料制成,轻易上漆、耐 久、可洗、快干,只需要一层足够达到反光效果。为使反光漆达到最好的反光效果,请严格 按照本公司的操作流程及方法来操作,具体操作事项如下: 1) 涂前要认真清洁需要施工的表面,确认表面干燥无油污及脏物,待底材干燥后再做面漆。 2) 开启罐盖后加入 10%左右的稀释剂,至少要用 5-10分钟搅拌漆体,若有特殊要求请先咨 询我司技术人员,以免影响反光效果。 3) 底漆喷涂:白底漆:稀释剂= 1:0.5-0.8(喷涂白底漆后的反光漆比不喷涂白底漆的反光 强度高 20%左右,如果要求高的可以选择喷白底漆, 如果要求不高的也可以不喷白底漆) 4) 面漆涂刷:充分搅拌稀释均匀后,选用柔软的羊毛刷,用毛刷涂刷过程中,并不时搅动 漆体以防沉淀,羊毛刷蘸漆体由罐底向上蘸,羊毛刷与被涂面斜角 45度角,成“一
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