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免洗小米抛光工艺优化研究
免洗小米抛光工艺优化研究
为优化免洗小米抛光工艺,在单因素试验基础上,选择上光剂的浓度、温度和添加量为自变量,洗米水的浊度为响应值,根据中心组合试验设计原理采用3因素3水平响应面分析法,模拟得到二次多项式回归方程预测模型,并确定免洗小米抛光的最佳工艺条件为:浓度30%、温度30℃、添加量1%,浊度为54.8NTU。