2025-01-22
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。
近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注。本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍。
据《电子材料》1993年第4辑报道,上海同济大学和常州真空镀膜厂共同研制成功大面积热反射镀膜玻璃,并已通过鉴定投入大批量生产。该产品是80年代国外刚发展起来的一种新型玻璃材料。使用这种玻璃时室外
选择具有良好反射红外线性能的涂膜,则需具有高电荷载体浓度和移动性。所谓真空镀膜就是要求结构均匀并缺陷少,且容易流动的电子而形成的镀膜。所用的金属主要有金、银、铜等。其透射率在40%以下,共形成的
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜机各机构元件的设计计算、设计参数的选择,其中还重点系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和膜厚均匀性设计。
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。
真空镀膜玻璃作为环保节能新型材料有保温、节能、降噪、防辐射等作用,随着建筑、汽车、装饰装修、家具、信息产业技术等行业的发展和人们对生活空间环境要求的提高,安全玻璃、节能真空玻璃等功能性加工产品得到广泛应用。生产真空镀膜玻璃对推动整个国民经济的发展起着积极作用。
选用含有大量不饱和双键、耐温性优异、流平性好的聚1,2-丁二烯为主要成膜物质,通过引入长碳链叔碳结构提高涂膜的流平性能和丰满度;引入氨酯键一方面调整相对分子质量,提高涂膜的分子间力,从而提高涂膜在烘烤固化过程中的抗流挂性能;另一方面提高涂膜与底材的附着力。
采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的k9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的au膜。对镀制的au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子源的使用方式、au膜厚度对反射镜的反射率有重大影响。基片材料、镀前基片表面清洗工艺等对反射率也有一定影响。采用镀前离子轰击,可显著提高au膜反射率及膜与基底的粘合力;获得最高反射率时的最佳膜厚与基片材料、镀膜工艺密切相关。对经过离子清洗的石英基片,膜厚在30nm左右反射率最高;比较而言,石英基片可获得更高的反射率;辅助离子源的使用还显著影响获得最高反射率时对应的最佳膜厚值,且对k9基片的影响更显著。
精品文档 精品文档 镀膜玻璃 镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜,以改 变玻璃的光学性能,满足某种特定要求。 镀膜玻璃按产品的不同特性,可分为以下几类:热反射玻璃、低辐射玻璃 (low-e)、导电膜玻璃等。热反射玻璃一般是在玻璃表面镀一层或多层诸如铬、 钛或不锈钢等金属或其化合物组成的薄膜,使产品呈丰富的色彩,对于可见光有 适当的透射率,对红外线有较高的反射率,对紫外线有较高吸收率,因此,也称 为阳光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墙;低辐射玻璃是在玻璃表面镀由多层 银、铜或锡等金属或其化合物组成的薄膜系,产品对可见光有较高的透射率,对 红外线有很高的反射率,具有良好的隔热性能,主要用于建筑和汽车、船舶等交 通工具,由于膜层强度较差,一般都制成中空玻璃使用;导电膜玻璃是在玻璃表 面涂敷氧化铟锡等导电薄膜,可用于玻璃的加热、除霜、除雾以
采用直流反应磁控溅射法在玻璃片上制备了tin薄膜,研究不同制备工艺条件与薄膜性能之间的关系。用紫外-可见光分光光度计测试了不同沉积时间和n2流量条件下tin薄膜透光率;用x射线衍射仪分析了不同n2流量和溅射功率条件下tin薄膜结构;用扫描电镜(sem)观察了tin薄膜的表面腐蚀形貌,用恒电位仪对tin薄膜的耐腐蚀性进行了分析。结果表明:当沉积时间为2min,n2流量为15ml/min时,在可见光区有较高的透光率,在近红外区的透光率很低;当n2流量为15ml/min,溅射功率为4kw时,tin薄膜的结晶最致密;当溅射功率为4kw时,tin薄膜具有较好的耐腐蚀性。
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃
由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空化学气相沉积(cvd)、离子注入与离子辅助沉积技术、ito导电玻璃镀膜工艺、薄膜厚度测量与监控、薄膜与表面分析检测技术。书中还系统地介绍了反应溅射镀膜、非平衡磁控溅射和中频交流溅射镀膜技术。
真空蒸发镀膜是生产建筑幕墙玻璃常用的一种方法,为保证膜层附着力等各项性能,合理的工艺流程是必要的。结合生产实际,对有关的工艺进行了详细的分析,并给出了一些典型的工艺参数
近日,全国最大的真空镀膜玻璃建设项目落户靖边县中小企业创业园。该项目占地约67万m^2,计划分两期实施,总投资20.3亿元。建成后,每年可生产2000万m。的真空镀膜玻璃,产值可达92亿元,实现税收9.3亿元,是世界首条可以高效连续生产的产业化真空玻璃生产线。该项目充分利用靖边天然气资源充足的优势,结合美国vecast公司世界领先的专有技术,高效率地生产纳米陶瓷真空镀膜玻璃。该产品是环保节能的新型材料,产业链长、可衍生多种高效节能环保材料,可广泛应用在建筑、汽车、火车、轮船、冰箱电器及航空、航天等领域。该项目落户在靖边落地建设对调整地方产业结构,转变经济增长方式有着重要意义。
职位:建筑智能化设计工程师
擅长专业:土建 安装 装饰 市政 园林
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