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固结磨料抛光垫抛光硅片

2025-01-16

固结磨料抛光垫抛光硅片的探索研究

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采用失重法与铅笔硬度计分析了抛光垫的组分对其溶胀率及干湿态硬度的影响,比较了固结磨料方法与游离磨料方法抛光后硅片的表面粗糙度。结果表明:抛光垫基体的溶胀率随基体中聚乙二醇双丙烯酸酯(PEGDA)或乙氧基化三羟基丙烷三丙酸酯(EO15-TMAPTA)含量的增加而提高;基体的干态硬度随PEGDA含量的增加先有所增大,而后减小,随EO15-TMAPTA含量的增加而增大;湿态下铅笔硬度随PEGDA或EO15-TMAPTA含量的增加而减小;光引发剂量的增加,有利于增大基体的干湿态硬度;固结磨料抛光硅片的去除速率是游离磨料加工的2~3倍,而前者抛光硅片后的表面粗糙度Ra为12.2nm,大于后者的4.32nm。

金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究 金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究 金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究
金刚石丸片与固结磨料抛光垫研磨硅片的比较研究

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采用金刚石丸片和固结磨料抛光垫两种方式研磨加工硅片,以硅片的材料去除率(mrr)和表面粗糙度(sa)为指标对金刚石丸片和固结磨料抛光垫的研磨性能进行了评价。结果表明:固结磨料抛光垫研磨硅片的材料去除率高于金刚石丸片;研磨后硅片的表面粗糙度也优于金刚石丸片,且表面粗糙度(sa)在中部和边缘相差不大。最后分析了研磨硅片的产物-磨屑的形状特征,得出固结磨料抛光垫研磨硅片时的塑性去除量远高于金刚石丸片。

叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析 叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析 叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析
叶序结构抛光垫表面的抛光液流场分析

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为了解决在化学机械抛光过程中抛光接触区域内抛光液的分布均匀性问题,基于生物学的叶序理论,设计葵花籽粒结构的仿生抛光垫,建立化学机械抛光抛光液流场的运动方程和边界条件,利用流体力学软件(fluent)对抛光液的流动状态进行仿真,并获得叶序参数对抛光液流动状态的影响规律。结果表明:抛光液在基于葵花籽粒的仿生抛光垫的流动是均匀的,抛光液沿着逆时针和顺时针叶列斜线沟槽流动,有利于流体向四周发散。

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基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析

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基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析 4.3

基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析 基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析 基于仿生结构锡抛光垫的抛光接触压力分析

为了让化学机械抛光中晶片接触表面受力更均匀,基于winkler地基理论及叶序理论设计了一种锡仿生结构抛光垫,并且建立了抛光的接触力学模型和有限元分析模型。通过对抛光晶片表面接触压力的计算,获得了晶片表面接触压力分布,以及各物理参数对压力分布的影响规律。研究结果表明,使用锡仿生结构抛光垫能减小材料横向牵连效应,改善接触压力分布,而且存在使压力分布更为均匀的叶序参数。

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超薄硅双面抛光片抛光工艺技术

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超薄硅双面抛光片抛光工艺技术 4.6

超薄硅双面抛光片抛光工艺技术 超薄硅双面抛光片抛光工艺技术 超薄硅双面抛光片抛光工艺技术

mems器件、保护电路、空间太阳电池等的制作需要使用硅双面抛光片,并且要求抛光片的厚度很薄,传统的硅抛光片加工工艺已经不能满足这一要求。介绍了一种用于超薄硅单晶双面抛光片加工的抛光工艺方法。通过对硅片抛光机理[1]、抛光方式、抛光工艺的研究和对抛光工艺试验结果的分析,解决了超薄硅单晶双面抛光片在加工过程中碎片率高、抛光片背面表面质量不易控制的技术难题,研制出了高质量的超薄硅单晶双面抛光片。

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热门文档 固结磨料抛光垫抛光硅片

化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究

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化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究 4.7

化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究 化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究 化学机械抛光中抛光垫表面沟槽的研究

抛光垫表面沟槽是决定抛光垫性能的重要因素之一。介绍了抛光垫表面沟槽的形状、尺寸和倾斜角度等因素对抛光过程的影响规律,认为:负螺旋对数型沟槽抛光垫的性能最佳,沟槽的深度和宽度会影响加工区域抛光液的平均驻留时间、混和效率及成分,沟槽的倾斜角度也会影响抛光效率,-20°倾斜角抛光垫的抛光效率最高。

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化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望

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化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望 4.7

化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望 化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望 化学机械抛光垫沟槽形状的研究及展望

在化学机械抛光过程中,沟槽形状是抛光垫性能的重要影响因素之一,它会直接影响抛光效果。本文介绍了化学机械抛光垫上沟槽的基本形状及其对抛光效果的影响,以及不同复合形状的抛光垫沟槽及其对抛光效果的影响,并就研究中现存的主要问题提出展望。

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抛光砖抛光废料的回收利用途径分析

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抛光砖抛光废料的回收利用途径分析 4.7

抛光砖抛光废料的回收利用途径分析 抛光砖抛光废料的回收利用途径分析 抛光砖抛光废料的回收利用途径分析

陶瓷抛光砖抛光废料产出量很大,严重污染周边环境,是困扰抛光砖生产的世界性难题。本文通过对此方面的研究结果,着重论述了陶瓷抛光砖抛光废料回收利用的可行性方法。

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陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用

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陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用 4.6

陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用 陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用 陶瓷抛光砖抛光废料的回收与利用

陶瓷抛光砖抛光废料产出量很大,严重污染周边环境,是困扰抛光砖生产的世界性难题。根据多年的研究结果,着重论述陶瓷抛光砖抛光废料回收利用的可行性方法,并对该技术要点及技术指标进行说明。

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牙间隙的抛光基托磨光面的抛光

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牙间隙的抛光基托磨光面的抛光 4.6

牙间隙的抛光基托磨光面的抛光

牙间隙的抛光基托磨光面的抛光

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精华文档 固结磨料抛光垫抛光硅片

全自动铜片抛光机

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全自动铜片抛光机 4.7

全自动铜片抛光机

自动铜片抛光机说明书 1.技术概要: 自动铜片抛光机是为‘液化石油汽铜片腐蚀试验’所用的的铜片试样制备而设 计的。它的主要设计目的是以自动抛光来代替传统繁复的手工制样,并且可以多 片多面同时抛光为大批量的试样制备提供良好的效率保证。 该设备的主要技术特点如下: 1.1占用空间尺寸为645x240x378,全重24kg。结构紧凑可适应长时间连 续作业需求。 1.2一次可装取最多三片铜片以提高效率。 1.3磨头为全气悬浮结构,依靠气体压力形成气体弹簧以保证对试样的自如 适应。 1.4抛光垫为柔性材料,对试样的表面平整度有较好的适应能力。 1.5磨料被设计为可自行剥离,以防铜屑阻塞砂轮后至后者失效。 1.6机械动力全部来自压缩空气,清洁环保,工作过程中,无扬尘及严重噪 音。 2.动力及设施配备: 2.1压缩空气(cda)或氮气(n2),压力调整范围在0.4mpa

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改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响

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改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响 4.5

改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响 改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响 改性超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响

目的研究超细氧化铝粉体表面改性,评定改性效果对抛光磨料耐磨性能的影响,分析抛光磨料摩擦磨损机理.方法采用聚丙烯酸对超细氧化铝进行表面改性制备出有机包覆的复合粒子,利用激光粒度仪、x-射线衍射仪、红外光谱分析仪和扫描电镜对其表征,测试经有机包覆后的超细氧化铝对抛光磨料耐磨性的影响.结果表面改性后的氧化铝颗粒与结合剂粘合力好,分散均匀不易团聚,氧化铝掺量为30%时,磨料的摩擦磨损系数为0.1649,耐磨性较好.结论超细氧化铝颗粒经有机包覆后表面性质发生很大变化,但其物相结构没有改变,氧化铝颗粒与结合剂粘结力强避免了磨料在摩擦时的脱粒现象,减少划痕增强其耐磨性.

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纳米磨料制备花岗石抛光磨具的研究

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纳米磨料制备花岗石抛光磨具的研究 4.7

纳米磨料制备花岗石抛光磨具的研究 纳米磨料制备花岗石抛光磨具的研究 纳米磨料制备花岗石抛光磨具的研究

以纳米三氧化二铝和纳米二氧化锡等作为复合纳米磨料,以酚醛树脂为粘结剂在160℃和8mpa的条件下预压,然后在硬化炉里硬化制备花岗石抛光磨具。磨削对比试验表明:纳米磨料花岗石抛光磨具的磨削性能、耐磨性能、耐水性能均优于普通磨料花岗石抛光磨具,前者的抛光光洁度达98度

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研磨与抛光

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研磨与抛光 4.6

研磨与抛光

研磨与抛光

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抛光砖

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抛光砖 4.6

抛光砖

抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖,属通体砖的一种。相对通体砖而 言,抛光砖表面要光洁得多。抛光砖坚硬耐磨,适合在除洗手间、厨房以外的多数室内空间 中使用。在运用渗花技术的基础上,抛光砖可以做出各种仿石、仿木效果。由于审美观的因 素,我国市场上的瓷砖品种一直是以大片的、大片的大规格华丽而高档抛光砖为主,象以〃 石〃为名的抛光砖、超微粉砖、微晶玻璃、聚晶微粉等等,一大批高档抛光砖产品让人眼花 缭乱。这些高档产品的诞生和发展,因为有市场所以才有大规模的生产,这符合我国消费者 的追求和审美眼光。它不仅有豪华大气、富丽堂皇,大空间的视觉效果,在某种程度上也是 身份与形象的代表。 抛光砖有一个致命的缺点: 抛光砖因其坚硬、耐磨、适合室内外大面积铺贴而受到消费者的喜爱。但抛光砖在制作时 留下的凹凸气孔,这些气孔会藏污纳垢,造成了表面很容易渗入污染物,

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最新文档 固结磨料抛光垫抛光硅片

抛光砖

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抛光砖 4.6

抛光砖

-1- 抛光砖 发展 我国抛光砖随着生产技术水平的不断提高,品质走在世界前列,质量处于国际先进水平。国标高 于欧标,表面平整度、边直度、直角度和耐磨性等参数都比欧标高2倍以上。工艺上的要求比国外小 规格瓷砖更高,在无缝拼接上,对于瓷砖尺寸精确度要求也更高,品质也更优秀。目前抛光砖在出口 上占很大份额。但超大规格瓷砖受环境、强度、破损率的影响,不会有更大的发展。为了求变,陶瓷 企业在科技上大下力度,提高抛光砖性能,使抛光砖具有突破性的创新。但是说到瓷砖一般还是很难 与艺术扯到一块,它只是铺到地上的一块块砖,其实正是这一块块砖,通过点点滴滴的艺术渗透彰显 家居的品位与风格。今春瓷砖的流行更与艺术息息相关。设计走向总体而言,源于自然、质感高贵以 及永恒的经典颜色和图案最受欢迎。而这些充满艺术气息的瓷砖代表首推意大利与西班牙瓷砖。 抛光砖的优点 1、优点一:无放

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抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进

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抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进 4.7

抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进 抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进 抛光机6圆磨块粗抛抛光头的改进

笔者对6圆磨块粗抛抛光头进行了改进,选用了合理的自转速度,在不需降低功率的条件下,提高了易损轴承的承载能力,延长了每次维修后的正常使用时间、降低了维修费用、提高了生产效率。

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不锈钢抛光材料抛光辊轮特性

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不锈钢抛光材料抛光辊轮特性 4.3

不锈钢抛光材料抛光辊轮特性

不锈钢抛光材料抛光辊轮特性 汉通研磨:不锈钢抛光材料抛光辊轮应用于面积较大的不锈钢板材、不同金属板材的打磨、抛光,可 选择不同磨料对表面处理。抛光材料抛光辊轮包括:尼龙抛光轴辊、拉丝刷辊、飞翼轮轴辊、尼龙轮拼辊、 卷紧轮等,用于电梯制造、不锈钢板材卷板、厨具制造、铜铝板材制品、人造大理石、高档木地板、线路 板等拉丝抛光。常规及特殊规格可订做,欢迎咨询汉通客服。 抛光材料抛光辊应用范围:电梯制造、不锈钢板材卷板、厨具制造、铜铝板材制品、人造大理石、高 档木地板、线路板等拉丝抛光。 抛光材料抛光辊产品特性:在高速自动抛光机上使用打磨板材时产生高温时飞翼轮轴辊不会熔粘上板 材,可以加水或液体使用、锋利、耐用、自锐、防堵、光洁度高。 抛光材料辊轮加工范围: 直径:7.5cm--35.0cm(3寸--14寸) 厚度:20.0cm--150.0cm(8寸--60寸) 砂号:46#-

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抛光砖文案

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抛光砖文案 4.6

抛光砖文案

云影斯都 云影斯都采用国际领先的数控定位,立体布料技术精心研制而成。清雅简洁的外观,行 云流水的纹理,立体通透的质感,营造出层次丰富,清新逼真的视觉效果。源于自然,超越 真石。 以自然流畅的天然石材纹理,色彩丰富的装饰效果和独特的品质,广泛使用于各种建设 风格。 清雅简洁倍显品味 清新淡雅的外观,自然流畅的天然石材纹理,色彩丰富的装饰效果,让整个空间倍显 主人的独特品味。大面积铺设在客厅、阳台等地,有着拓展空间的效果。 流畅纹理通透质感 利用立体滑动平铺的布料技术,将幻彩异型聚核粉体在砖表面自然精确分布,结合反打 微粉很线条布艺工艺,呈现立体通透质感;不用颜色之间保持清晰界限,营造出一种行云流 水般灵动效果。 耐磨抗污适用广泛 硬度高、耐磨损,易打理;不渗漏、不吸污、无辐射、易清洁、广泛适用多种装饰风格。 时尚风格 明亮的灯光下,暖色调的墙面,搭配蒙娜

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4研磨和抛光

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4研磨和抛光 4.3

4研磨和抛光

6.4研磨与抛光 模具型腔或型芯经机加工和电加工后,其表面一般很难达到所需要的表面粗糙度,因而需要进行抛光, 有时为了达到需要的精度或抛光面的平整又要进行研磨。即先进行研磨再进行抛光。研磨的尺寸精度可达 0.025um,表面粗糙度达0.01um。而抛光主要是进行光饰加工,表面粗糙度最高可达0.008um。研磨是在 低速、低压下利用一定颗粒度的磨料进行的磨削加工。而抛光则在相对高速下进行的,其使用的磨料相对 颗粒度要小,不仅有微细磨料的切削加工,而且有挤擦产生的塑性加工。目前除了用机械式的抛光而外, 其他还有挤压珩磨、电解抛光与电解修磨等方法。 6.4.1研磨与抛光工艺 模具型腔经机加工或电加工后一般表面粗糙度为3.2-4.0um,而为了得到美观的塑料制品,要求型腔表 面的粗糙度为0.16-0.016um甚至更高,这就需要研磨与抛光。但为了确保研抛后的尺寸精度,要求留有一

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微磨料水射流抛光硅片的实验研究

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微磨料水射流抛光硅片的实验研究 4.6

微磨料水射流抛光硅片的实验研究 微磨料水射流抛光硅片的实验研究 微磨料水射流抛光硅片的实验研究

采用微磨料水射流对硅片进行抛光实验研究。根据后混合磨料水射流原理,通过设计实验,在选取合适磨粒直径和其他参数的条件下,采用微磨料水射流对硬脆性材料的表面进行抛光是完全可行的。并以正交试验设计为依据,分析在抛光硅片过程中,微磨料水射流主要加工工艺参数对表面粗糙度的影响。通过分析该实验结果的相关指标,可知抛光效果较好,因此用微磨料水射流对硅片的抛光是可行的。

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抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究

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抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究 4.7

抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究 抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究 抛光废渣回收利用于抛光砖生产的研究

现有的抛光砖生产工艺由于在抛光阶段会产生大量的废渣,很难直接回收利用,从而对周边环境造成极大的破坏。其中抛光废渣中含有氯氧镁水泥等杂质是造成抛光废渣直接回收利用时产生坯体膨胀、针孔、变形等缺陷的最重要原因。针对现有的抛光砖在抛光阶段产生大量的废渣难于直接回收再用的难题,本文提出了分类回收、自然沉降、分开使用的最优处理思路,创新性地丰富了抛光废渣回收领域的技术内涵。

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美国3M公司推出耐用型抛光地板垫

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美国3M公司推出耐用型抛光地板垫 4.5

美国3M公司推出耐用型抛光地板垫 美国3M公司推出耐用型抛光地板垫 美国3M公司推出耐用型抛光地板垫

美国3m公司推出了一种极其耐用的抛光地板垫skybluehi—performanceburnishpad3050。它包含非织造布加树脂与其他材料,可降低更软面层烧伤和涡旋痕迹的同时,提供明亮的、高光泽的地板,所有的高速电动、电池和丙烷地板抛光机使用。这款地板垫在受控测试环境中测试是普通类型耐用性能的50%以上,这意味着在抛光机维修上花费时间更少,更换购买的周期更长。

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大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究

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大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究 4.7

大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究 大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究 大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究

近年来,随着信息电子技术、光电技术及半导体照明技术的迅速发展,超光滑平面元器件需求越来越大,这些表面要求达到亚纳米级表面粗糙度、微米级面形精度且无表面和亚表面损伤,传统超精密抛光技术由于耗时、成本高、易产生表面损伤,难以满足大批量生产的要求。磁流变加工被认为是一种极具前景的获取低损伤镜面的技术手段,然而,传统磁流变加工方法抛光点面积小,加工效率低。为解决上述问题,本文在比较分析国内外超光滑表面加工技术的基础上,提出了一种大抛光模磁流变超光滑平面抛光技

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抛光砖 (2)

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抛光砖 (2) 4.6

抛光砖 (2)

抛光砖 抛光砖 抛光砖是通体砖坯体的表面经过打磨而成的一种光亮的砖,属通体砖的一种。相 对通体砖而言,抛光砖表面要光洁得多。抛光砖坚硬耐磨,适合在除洗手间、厨 房以外的多数室内空间中使用比如用于阳台,外墙装饰等。在运用渗花技术的基 础上,抛光砖可以做出各种仿石、仿木效果。 目录 发展 抛光砖的致命缺点 鉴别挑选之五字真诀 1.1、看 2.2、敲 3.3、滴 4.4、量 5.5、划 浅析抛光砖吸污原理及防污 1.1.前言 2.2.抛光砖吸污分析 3.3.抛光砖防污剂 4.4.抛光砖防污技术 5.5.提高抛光砖防污能力的方法 瓷砖市场前景广阔 抛光砖的品种分类 1.第一类:渗花型抛光砖 2.第二类:微粉砖 3.第三类:多管布料抛光砖 4.第四类:微晶石 抛光砖如何选购 抛光砖的翻新和护理方法 发展 我国抛光砖随着生产技术水平的不断提高,品质走在世

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王白冰

职位:制冷与空调技术暖通工程师

擅长专业:土建 安装 装饰 市政 园林

固结磨料抛光垫抛光硅片文辑: 是王白冰根据数聚超市为大家精心整理的相关固结磨料抛光垫抛光硅片资料、文献、知识、教程及精品数据等,方便大家下载及在线阅读。同时,造价通平台还为您提供材价查询、测算、询价、云造价、私有云高端定制等建设领域优质服务。PC版访问: 固结磨料抛光垫抛光硅片
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