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LEDUV光刻光源

光刻技术在半导体集成电路制造工艺中无论是从资金、技术、人员来看,有着举足轻重的地位,集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的,芯片光谱覆盖紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源。

LEDUV光刻光源概述

光刻技术在半导体集成电路制造工艺中无论是从资金、技术、人员来看,有着举足轻重的地位,集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的,芯片光谱覆盖紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源 在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究,研制开发了系列光刻光源产品,在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用,在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究,研制开发了系列LED UV光刻光源产品,在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用,随着研究进一步深入,LED UV光刻光源会更加完善。

LED UV光刻光源产品优势:

1、LED UV光谱集中、能量集中

2、专利光学配光,保证光照均匀

3、大功率芯片集成,保证紫外能量充足

4、冷光源照射,热辐射很小

5、即开即关、无需预热

6、设计简洁易集成

7、LED使用寿命长,耗电少,维护和运营成本更低

8、不含汞成分,环保低碳

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LEDUV光刻光源造价信息

  • 市场价
  • 信息价
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太阳能线条点光源

  • 1000×61×66mm
  • 蜀华
  • 13%
  • 广东蜀华照明科技股份有限公司
  • 2022-12-06
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LED立面点光源Ø50mm

  • OUGE-DGY-50YC
  • 勇电
  • 13%
  • 贵州光明航专业照明有限公司
  • 2022-12-06
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全光谱球泡灯(模拟自然光源加倍呵护双眼)

  • 功率:5W/7W/9W
  • 罗化光源
  • 13%
  • 深圳市罗化光源有限公司
  • 2022-12-06
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LED方形电光源

  • DC24V 80*80*60 18颗5050贴片LED/LNF-020W
  • 13%
  • 贵阳市祥和科技有限公司
  • 2022-12-06
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光源

  • 品种:LED灯;功率(W):3;型号:KJX-点光源暖白3000K;说明:车铝 钻石款点光源单色50mm;外形尺寸(mm):Ф80×55;额
  • 盛辉鑫
  • 13%
  • 武汉市盛辉鑫光电科技有限公司
  • 2022-12-06
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LED光源

  • E27PA 雾银(6×0.5W)
  • 阳江市2012年12月信息价
  • 建筑工程
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LED光源

  • E14SA 雾银(6×0.5W)
  • 阳江市2012年11月信息价
  • 建筑工程
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LED光源

  • E14SB 雾银、金色
  • 阳江市2012年11月信息价
  • 建筑工程
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LED光源

  • E14BA 雾银(6×0.5W)
  • 阳江市2012年10月信息价
  • 建筑工程
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LED光源

  • E14SB 雾银、金色
  • 阳江市2012年12月信息价
  • 建筑工程
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光刻

  • 1.激光雕刻字体 2.其他满足设计要求
  • 1.0个
  • 3
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-08-28
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光源

  • 1000W(MH光源)
  • 34套
  • 2
  • 辉阳
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2014-12-01
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光源

  • 1000W(MH光源)
  • 15套
  • 2
  • 辉阳
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2014-12-01
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光源

  • 1000W(Z型智能光源)
  • 16套
  • 2
  • 辉阳
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2014-12-01
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光源

  • 1500W(Z型智能光源)
  • 24只
  • 2
  • 辉阳
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2014-12-01
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LEDUV光刻光源常见问题

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LEDUV光刻光源文献

玻璃银光刻 玻璃银光刻

玻璃银光刻

格式:pdf

大小:4.3MB

页数: 2页

玻璃银光刻作为在玻璃上进行的美术创作,呈现给世人的是一个银光异彩的镜画世界。玻璃银光刻最早出现于民国初期的上海。当时上海市场的衣柜门上出现了一种既具观赏性又有实用性的装饰镜,之后这种装饰方法在全国各地流行开来。上世纪50年代,温州玻璃银光刻的第一代传人邵思荣在上海学习并将该种制镜的工艺技法带回温州,后传授于其弟邵松。上世纪70年代,邵松又将该门制镜技艺传授给了温州龙湾民间艺人项有礼。

利用光刻机挡板优化MPW光罩布局 利用光刻机挡板优化MPW光罩布局

利用光刻机挡板优化MPW光罩布局

格式:pdf

大小:4.3MB

页数: 4页

伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把光罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化光罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。

LED UV光刻光源概述

光刻技术在半导体集成电路制造工艺中无论是从资金、技术、人员来看,有着举足轻重的地位,集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的,芯片光谱覆盖紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究,研制开发了系列光刻光源产品,在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用,在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究,研制开发了系列LED UV光刻光源产品,在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用,随着研究进一步深入,LED UV光刻光源会更加完善。

LED UV光刻光源产品优势:

1、LED UV光谱集中、能量集中

2、专利光学配光,保证光照均匀

3、大功率芯片集成,保证紫外能量充足

4、冷光源照射,热辐射很小

5、即开即关、无需预热

6、设计简洁易集成

7、LED使用寿命长,耗电少,维护和运营成本更低

8、不含汞成分,环保低碳

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印刷uvled固化设备厂家讲述LEDUV光源与高压汞灯光源的区别

印刷uvled固化设备厂家讲述LEDUV光源与高压汞灯光源的区别

LEDUV光源,也叫UVLED光源,目前应用各行各业,这也是UVLED光源取代传统UV汞灯的必然趋势。UVLED光源与UV汞灯的区别主要集中在热辐射、使用寿命、环保、照射强度、能耗这五大方面:

一)、LEDUV光源与高压汞灯:热辐射

高功率发光二极管不会产生热辐射,是一种纯紫外波段发出,被照射的产品表面温升五°C以下,从而提升了产品的合格率。而对于传统的UV汞灯固化系统并非纯紫外波段,中间掺夹着大量的红外波段,从而使产品表面温度升高六十至九十°C,使产品的定位发生移位,产生大量的不良品。UVLED固化方式最适宜塑料基材、透镜粘接及电子产品、光纤光缆等热敏感、油墨印刷、高精度的粘接工艺要求。

二)、LEDUV光源与高压汞灯:使用寿命

传统的UV固化系统,是使用UV汞灯照射进行固化,UV汞灯的一般使用寿命是在一千至三千小时就必须更换灯泡了,而采用UVLED光源固化系统使用寿命可达到三万至四万小时,无需更换灯管。UVLED方式可以仅在需要紫外线时瞬间点亮,按DUIY=五分之一准备时间=五照射时间=一)时,LED方式的使用寿命相当于汞灯方式的三十至四十倍。大幅度提升了工作效率,同时也非常节能,而传统的UV汞灯固化系统则需要缓慢的启动(不可瞬间点亮),开闭影响灯泡的寿命,且必须一直点亮,造成不必要的能源浪费。

三)、LEDUV光源与高压汞灯:环保无污染

传统的UV汞灯方式固化机采用汞灯发光方式,灯泡内含有水银,因灯泡需要经常更换,就好产生大量的废品,对于这些废品处理、运输非常麻烦,处理不当会对环境产生严重污染。而LED式固化机采用半导体放光,没有对环境造成污染的因素。因此使用LED式固化机更加环保。

四)、LEDUV光源与高压汞灯:超强照度

UVLED是采用大功率LED芯片和特殊的光学设计,可使紫外光达到高精度、高强度照射;紫外光输出达到一万两千两百mW/m2的照射强度。采用最新的光学技术和制造工艺,实现了比传统汞灯照射方式更加优化的高强度输出与均匀性,几乎是传统汞灯方式照射光度的2倍,使UV粘合剂更快固化,缩短了生产时间,大幅度提高了生产效率。

传统的汞灯方式UVLED固化机在增加照射通道时,通道的增加会造成单个照射通道的输出能量减少。而采用LED式的照射,各个照射头独立发光,照射能量不受通道增加的影响,始终保持在最大值。超强集中的光照度,与汞灯相比,UVLED缩短了作业的照射时间,提高了生产效率。

五)、LEDUV光源与高压汞灯:能耗低

UVLED方式较汞灯方式有效发光效率高十倍以上。同时,汞灯方式无论是否进行有效照射,汞灯都需要连续点灯工作,电力一直处于消耗状态。而UVLED方式只在照射时才消耗电力,而在待机时电力消耗几乎为零。可以做一个简单的计算,每台点光源固化机节省的电能:两百七十瓦特)*八(小时)*三百六十五(天)=八百(千瓦时)

由此可见,仅从耗电能比较每台每年就可以省千元。不仅如此,通过节省电能,每台每年可间接减少二氧化碳的排放量一点四吨,相当于一辆轿车一年的排气量。

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光刻机紫外光源

曝光系统最核心的部件之一是紫外光源。

常见光源分为:

可见光:g线:436nm

紫外光(UV),i线:365nm

深紫外光(DUV),KrF 准分子激光:248 nm, ArF 准分子激光:193 nm

极紫外光(EUV),10 ~ 15 nm

对光源系统的要求

a.有适当的波长。波长越短,可曝光的特征尺寸就越小;[波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重。]

b.有足够的能量。能量越大,曝光时间就越短;

c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度 或者叫 不均匀度 光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]

常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯),高压汞灯有许多尖锐的光谱线,经过滤光后使用其中的g 线(436 nm)或i 线(365 nm)。

对于波长更短的深紫外光光源,可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光(248 nm)、ArF 准分子激光(193 nm)和F2准分子激光(157 nm)等。

曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。

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