光刻技术在半导体集成电路制造工艺中无论是从资金、技术、人员来看，有着举足轻重的地位，集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的,芯片光谱覆盖紫外全波段265nm 280nm 310nm 340nm 365nm 375nm 385nm 395nm 405nm,LED UV光刻光源在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究，研制开发了系列光刻光源产品，在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用,在集成电路制造领域我们进行了长期的探索和研究，研制开发了系列LED UV光刻光源产品，在线性精密扫描曝光和面形整体曝光领域已得到应用，随着研究进一步深入，LED UV光刻光源会更加完善。

LED UV光刻光源产品优势:

1、LED UV光谱集中、能量集中

2、专利光学配光，保证光照均匀

3、大功率芯片集成，保证紫外能量充足

4、冷光源照射，热辐射很小

5、即开即关、无需预热

6、设计简洁易集成

7、LED使用寿命长，耗电少，维护和运营成本更低

8、不含汞成分，环保低碳