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磁控溅射

磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，而上世纪 70 年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

磁控溅射基本信息

中文名称磁控溅射
外文名称Magnetron Sputtering
技术类别物理气相沉积 (PVD)

磁控溅射造价信息

市场价
信息价
询价

磁控溅射

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:SS55;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):11/11;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-06

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磁控溅射

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:SS35;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):21/21;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-06

查看价格

磁控溅射贵金属

规格型号：
颜色:紫色;品种:玻璃贴膜;规格:ST40;厚度(mm):2mil;可见光反射率(%):35/35;紫外线阻隔率UVR(%):≧99;可见光
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
北京力盾宏达科技有限公司
报价时间：
2022-12-06

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磁控溅射镀膜玻璃

规格型号：
规格型号:5茶
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
福耀玻璃工业集团股份有限公司郑州销售
报价时间：
2022-12-06

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磁控溅射镀膜玻璃

规格型号：
规格型号:5
价格行情：
材料单位：
m²
材料品牌：
材料税率：
13%
供应商：
福耀玻璃工业集团股份有限公司郑州销售
报价时间：
2022-12-06

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磁控板

规格型号：
无
需求量：
1套
报价数：
1
材料品牌：
世纪顺
材料档次：
中档
费用说明：
不含税费 | 不含运费
询价时间：
2022-06-23

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磁控车

规格型号：
GB-3006 室内健身器械
需求量：
10套
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
中档
费用说明：
不含税费 | 不含运费
询价时间：
2015-04-22

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纳米磁控(隔热)膜

规格型号：
无
需求量：
500m²
报价数：
1
材料品牌：
材料档次：
中档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2019-12-25

查看价格

磁控健身车

规格型号：
BC6760
需求量：
2140台
报价数：
3
材料品牌：
新运动
材料档次：
中档
费用说明：
含税费 | 不含运费
询价时间：
2015-09-07

查看价格

磁控健身车

规格型号：
3.6A-4
需求量：
9769台
报价数：
3
材料品牌：
材料档次：
中高档
费用说明：
含税费 | 含运费
询价时间：
2015-04-20

查看价格

磁控溅射常见问题

关于磁控溅射靶材的问题

如果有可能的话，最可能的是靶材利用率，磁控旋转靶材一般在两头的位置，磁场形成回路，磁场最强，这样，磁控溅射更多的自由电子，形成较强的自维持放电现象。相对应的，最容易溅射，溅射速率增强，所以溅射速度较其...
磁控溅射镀膜机一般价格是多少

1.2米乘1.5米。6支溅射，70-100万不等，每家不一样，可以看我资料
关于磁控溅射真空镀膜机镀ITO?请高手指点

差点看错，ITO搞不定，TIOx还可以说说。嘿嘿

磁控溅射文献

磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究

磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究

磁控溅射镀膜锦纶织物的耐磨性研究

格式：pdf

大小：691KB

页数： 3页

以钛金属为靶材、以锦纶织物为基体,通过改变溅射时间,溅射功率和溅射气压,制备出钛金属镀膜锦纶织物试样,然后进行摩擦试验.采用扫描设备获得了织物摩擦前后的图像,利用软件neoimaging测试织物组织点处的亮度,以相对亮度的变化反映镀膜的磨损.研究表明:随着溅射时间和溅射功率的增加,镀膜的耐磨性提高;较为合适的溅射气压是0.5~3 Pa,溅射气压过高,耐磨性反而降低.

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塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究

塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究

塑料基材上磁控溅射铝膜附着力研究

格式：pdf

大小：691KB

页数： 2页

在光学塑料表面上运用磁控溅射镀制的单质金属铝膜,常出现膜层与基片的附着力差的问题。本文结合光学塑料的性质,通过薄膜附着力理论分析,提出在工艺上改进铝膜附着力的方法。通过实验证明其方法的可行性。

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磁控溅射硅靶材及绑定靶材适用范围

本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。

磁控溅射硅靶材及绑定靶材主要技术

本标准规定了磁控溅射硅靶材的分类及牌号、原料、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存、供货状态及订货单（或合同）内容。 本标准适用于半导体等电子器件用的各种磁控溅射硅靶材。2100433B

氧化锌铝磁控溅射靶材主要内容

本标准规定了氧化锌铝磁控溅射靶材的术语和定义、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存、质量承诺等。 本标准适用于粉末冶金生产的用于磁控溅射沉积节能Low-E玻璃的功能介质层以及薄膜太阳能电池透明电极层等膜层的氧化锌铝磁控溅射靶材。

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