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垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究

《垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究》是依托武汉大学,由熊锐担任项目负责人的面上项目。

垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究基本信息

垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究结题摘要

垂直磁化纳米线在赛道存储器件、畴壁逻辑器以及纳米振荡器件都有广阔的应用前景,研究垂直纳米线中钉扎畴壁的动力学特性进行研究,探索调控畴壁动力学行为的方法对其在器件中的实际应用至关重要。本项目,我们将研究的重点放在垂直磁化纳米线中钉扎畴壁的动力学特性,主要开展了一下工作:1)采用磁控溅射法加上纳米刻蚀技术,制备出质量良好的垂直纳米线,对纳米线的各向异性磁电阻测量,显示出畴壁处于不同位置具有不同的AMR;2)研究了不同刻痕结构、形状和刻痕深度对对畴壁的钉扎强度,发现对称矩形刻痕具有最强的钉扎效果,而三角刻痕钉扎最弱;3)对钉扎畴壁的动力学特性研究发现,钉扎畴壁在一定的电流下出现振荡,其实振荡电流与刻痕的形状、深度都有关系,在深度钉扎时,三角刻痕具有最小的其实振荡电流;4)对深度钉扎的单个畴壁和多个畴壁的振荡特性进行了研究,发现在一定电流下,会出现恒频振荡,这种恒频振荡的振幅可以通过横向磁场辅助和多畴壁协同振荡大幅提高;5)设计了反铁磁耦合的双垂直磁化纳米线,利用自选轨道矩和DMI实现了耦合畴壁运动超高速运动;6)弄清垂直磁化-面内磁化复合纳米线中自旋波模式的振荡特性以及调控手段,提出了一种新型的纳米振荡器;7)设计了垂直磁化-面内磁化复合纳米柱阵列,证实了合理调控相互作用可以使各纳米柱的磁矩出现协同振荡,从而大幅提高振荡信号;8)探索了调控涡旋状态以及利用涡旋状态调控畴壁动力学特性的方法,发现涡旋畴壁的状态可以在选取适当的纳米线尺寸的情况,通过磁场大小方便地调控;9)对基于FePt3的双层薄膜中的交换耦合特性进行了研究,发现一定的化学无序以及铁磁层的诱导可以诱发Q2 相,从而解释了(100)取向的双层膜低温下出现的强的交换耦合场。以上这些工作中取得的重要结果以达到本象奴设定的研究目标。

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垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究造价信息

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垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究项目摘要

钉扎和去钉扎是磁纳米线中畴壁运动重要的过程。垂直磁化纳米线中的畴壁宽度小且结构稳定,对垂直磁化纳米线中畴壁钉扎与去钉扎过程及相关动力学的研究一方面有助于掌握磁纳米线畴壁运动的规律和操控方法,从而为实现逻辑运算和高密度存储奠定基础,另一方面,可以探索自旋转移力矩中非绝热项的本质等一些基本科学问题。本项目将以具有垂直各向异性的FePt和CoPt合金为材料体系, 研究纳米线中畴壁钉扎与去钉扎过程中畴壁的运动状态、去钉扎场大小以及它们与纳米线和钉扎点的几何尺寸等因素的关系,探索有效调控畴壁钉扎与去钉扎行为的方法;研究不同各向异性纳米线中非绝热系数及阻尼系数,澄清二者与自旋轨道耦合强弱的关系,并在此基础上结合理论研究探索二者的物理本质。

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垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究常见问题

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垂直磁化纳米线中的畴壁钉扎与去钉扎动力学研究文献

碳纳米管阀门的分子动力学研究 碳纳米管阀门的分子动力学研究

碳纳米管阀门的分子动力学研究

格式:pdf

大小:1.3MB

页数: 9页

以Lennard-Jones位能式与Brenner-Tersoff位能式为基础,经由分子动力学模拟,探讨流体分子与碳管间质、能传递的关系.首先在一(5,5)armchair碳管侧面,分别移除不同数目的碳原子,形成阀口(Aav=17.3~116.9 2),进行模拟.结果显示,常用的自扩散行为在该环境下不足以完全说明物性,即在相同系统温度下,阀口的大小也会改变氢原子逸出速度Vb(Breakthrough velocity).为此,必须考虑麦克斯韦-波尔兹曼能量分布方程(Maxwell-Boltzmann energy distribution)修正,此外,原子释放率与阀口尺寸有明显的相依性.同时研究中亦发现,阀门不同几何尺寸引起位能障(Potential energy barrier)、功函数(Work function)以及能隙(Energy gap)的改变,进而影响粒子通过时流率、流速等动力行为.可利用该特性,作为控制原子、分子流动的纳米阀门、粒子分离或化学反应器等基础设计依据.

超导纳米线单光子探测器 超导纳米线单光子探测器

超导纳米线单光子探测器

格式:pdf

大小:1.3MB

页数: 7页

利用磁控溅射、电子束光刻和反应离子刻蚀等微加工技术,开展了超导纳米线单光子探测器(SNSPD)的研究.通过对SNSPD的设计和制备工艺参数的优化,成功制备出了高质量的SNSPD.单光子检测实验表明,制备的SNSPD对660nm波长的光信号,系统检测效率可达30%,对1550nm波长光信号,最大系统检测效率为4.2%.在平均暗计数小于10c/s的情况下,系统检测效率大于20%(660nm)和3%(1550nm).

畴壁钉扎出处

《电气工程名词》第一版。

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畴壁钉扎公布时间

1998年,经全国科学技术名词审定委员会审定发布。

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干壁钉使用说明

在图中,我们能很清楚得看出单线粗牙干壁钉和双线细牙干壁钉在使用上的区别

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