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在镀覆溶液中加入非水溶性的固体微粒,使其与主体金属共同沉积形成镀层的工艺称之为复合镀。若采用电镀的工艺则称之为复合电镀;若采用化学镀的工艺则称之为复合化学镀。所得镀层称为复合镀层。 原则上,凡可镀覆的...
可以制造复合纤维的聚合物许多,要依据纤维使用要求,例如要求纤维有较高的模量、良好的染色性和耐磨性等。两种聚合物可以组合的重要原则是两种组分必需有同样的纺丝方法。必需考虑两种聚合物的能相容,两种聚合物在...
[PPT]关于复合地基复合模量
[PPT]关于复合地基复合模量——------建研院地基所----- 《关于复合地基复合模量》讲稿 注:共34页幻灯片。
平带状态一般是指理想MOS系统中各个区域的能带都是拉平的一种状态。对于实际的MOS系统,由于金属-半导体功函数差φms和Si-SiO2系统中电荷Qf 的影响, 在外加栅极电压为0 时,半导体表面的能带即发生了弯曲,从而这时需要另外再加上一定的电压才能使能带拉平,这个额外所加的电压就称为平带电压
对于体相的半导体材料而言,我们可以通过Mott-Schottly公式推算,进行简化戳通过作图大体上计算出其平带电位,但是对于纳米级别的半导体材料则主要是通过仪器的直接测定。
电化学方法:在三电极体系下,使用入射光激发半导体电极,并改变电极上的电势。当施加的电位比平带电位偏负的时候,光生电子不能够进入外电路,也就是说不会产生光电流。相反,当施加的电位比平带电位偏正的时候,光生电子则能偶进入外电路,进而产生光电流。所以开始产生光电流的电势即为该纳米半导体的平带电位。
光谱电化学方法:该方法同样是在三电极体系下,对半导体纳米晶施加不同的电位,测量其在固定波长下吸光度的变化。基本的原理与电化学方法大体相同。当电极电位比平带电位正时,吸光度不发生变化;偏负时则急剧上升。因为,吸光度开始急剧上升的电位即为纳米半导体的平带电位。
MOS的阈值电压是指使半导体表面产生反型层(即沟道)时所需要外加的栅极电压。
如果存在平带电压,栅压超过平带电压的有效电压使得半导体表面出现空间电荷层(耗尽层),然后再进一步产生反型层;故总的阈值电压中需要增加一个平带电压部分。
由于平带电压中包含有Si-SiO2系统中电荷Qf 的影响,而这些电荷与工艺因素关系很大,故在制作工艺过程中需要特别注意Na离子等的沾污,以便于控制或者获得预期的阈值电压。