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使用该项技术生产的高纯无氧铜具有一高两低的特点:即铜含量高,杂质含量低,氧含量低。
使用本项技术制备出的产品:
Cu含量: >99.99%;
导电率(软态产品): ≥100%IACS;
含氧量: <10PPm。
用于通讯电缆、变压器、电子、电气设备等用高纯无氧铜带产品的制备。
上引本来没有精炼程序,不能冶炼废铜线、废品店回收来的原料紫杂铜。但通过试验,改进操作方法和工艺,实现了上引法工频炉也能溶炼出符合国家标准要求的铜杆,取得了一定的经济效益。本文论述详尽,便于操作。值得推...
膜的材质分为有机和无机两大类,有机聚合物有醋酸纤维素、聚丙烯、聚碳酸酯、聚砜、聚酰胺等。无机膜材料有陶瓷和金属等膜的孔径大约 0.1~10μm,其操作压力在0.01-0.2MPa左右。过程操作分死端过...
方氏提银技术成熟、先进、易操作,并且投资少、见效快。方氏提银最大特点是当场加入化工原料,几分钟即可产生沉淀,然后把沉淀物带回家提纯,彻底解决了废水分散不便运输的难题。化工原料在当地的医药公司或化学试剂...
无氧铜与纯铜的区别
无氧铜和纯铜的区别之定义: 无氧铜:无氧铜是以高纯阴极铜为原料,熔体用煅烧木炭覆盖,熔炼、铸造在密封条件下生产的 含氧量在 30×10-6 以下的紫铜。 纯铜:就是含铜量最高的铜,普通纯铜是铜的质量分数不低于 99.7%,杂质量极少的含氧铜,外 观呈紫红色,故又称紫铜。主要牌号有 T1、T2、T3。无氧铜无氢脆现象,导电率高,加工性能和焊 接性能、耐蚀性能和低温性能均好。 无氧铜和纯铜的区别之用途: 纯铜: T1和 T2主要用作导电、导热、耐腐蚀元器件,如导线、 电缆、导电螺钉、壳体和各种导 管等,航空工业多用 T2。 T3主要作为结构材料使用,如制作电器开关、垫圈、铆钉、管嘴和各种导管等;也用于不太重 要的导电元件。 无氧铜:主要用于电真空仪器仪表用零件。广泛用于汇流排、导电条、波导管、同轴电缆、 真空密封件、真空管、晶体管的部件等。 无氧铜和纯铜的区别之化学成分对照: 牌 号 Cu+A
无氧铜、紫铜、黄铜区别
OFC(无氧铜):不含氧也不含任何脱氧剂残留物的纯铜。但实际上还是含有非常微量氧和 一些杂质。 按标准规定, 氧的含量不大于 0.03%,杂质总含量不大于 0.05%,铜的纯度大于 99.95%。纯度为 99.995% 的金属铜一般用于 音响器材、 真空电子器件、 电缆等电工电子应 用之中 . 其中无氧铜中又有 LC-OFC(线形结晶无氧铜或结晶无氧铜) :纯度在 99.995%以上 OCC(单晶无氧铜) :纯度最高,在 99.996%以上,又分为 PC-OCC和 UP-OCC 等 根据含氧量和杂质含量,无氧铜又分为一号和二号无氧铜。一号无氧铜纯度达到 99.97%, 氧含量不大于 0.003%,杂质总含量不大于 0.03%;二号无氧铜纯度达到 99.95%,氧含量 不大于 0.003%,杂质总含量不大于 0.05%。 无氧铜无氢脆现象,导电率高,加工性能和焊接性能、耐蚀性能和低温性能均