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环抛机

环抛机是上海中晶企业发展有限公司创新研制的大型平面高精度光学加工设备,产品定名为CM系列。环抛机是依据环形连续抛光法设计的设备。环形连续抛光,是一种复制抛光,修正盘校整沥青胶盘,沥青胶盘再抛光被加工零件。因此,环形连续抛光的核心就是如何获得高精度的沥青抛光模,在元件条件恒定的状态下抛光,获得高精度元件。环抛机就是基于这个目的研制的,其核心就是实现运行因素的可控。

环抛机基本信息

环抛机用途

环抛机最主要的特点是加工精度高、效率突出,可以稳定实现大口径元件(Φ400-1000mm)面形1/6λ的精度要求。环抛机产品已经投入国防、航天航空领域的国家重大专项中。

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环抛机造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

  • 3120×120×2500
  • 达创
  • 13%
  • 河北达创体育器材有限公司
  • 2022-12-06
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  • 1500×140×2400
  • 达创
  • 13%
  • 河北达创体育器材有限公司
  • 2022-12-06
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商铺室外

  • GMV-250WL/L
  • 格力
  • 13%
  • 成都市恒庆瑞暖通设备有限公司
  • 2022-12-06
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室外

  • GMV-1734WM/X 制冷量:173.4KW、制热量:194.5KW
  • 格力
  • 13%
  • 深圳市森皓伟业制冷设备有限公司
  • 2022-12-06
查看价格

室外

  • GMV-1360WM/X 制冷量:135.0KW制热量:151.5KW
  • 格力
  • 13%
  • 深圳市森皓伟业制冷设备有限公司
  • 2022-12-06
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年4季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年1季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2005年3季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年3季度信息价
  • 建筑工程
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夯实(电)

  • 夯击能力20-62Nm
  • 台班
  • 广州市2006年2季度信息价
  • 建筑工程
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自动

  • 盘直径≥Ф250mm、制样时间0-9999s
  • 2台
  • 3
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-09-04
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自动

  • 1.磨盘直径≥Ф250mm 2.磨盘转速50r/min-1000r/min,无级调速,150 r/min、300r/min(两级定速) 3.磨头转速5r/min-100r/min(无级调速) 4.加荷范围5N-60N 5.制样时间0-9999s 6.试样直径Ф30mm
  • 2台
  • 2
  • 非进口,2家不同厂家报价
  • 中高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2020-10-22
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单盘双速

  • 盘直径:≥Ф200mm、转速:150r/min和300r/min(两级定速)
  • 60台
  • 3
  • 中档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-09-04
查看价格

自动

  • 详见原档
  • 2台
  • 1
  • 中档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2020-10-28
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  • V=1.4r/s N=1.5KW
  • 1台
  • 1
  • 中高档
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-11-01
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环抛机赞誉

环抛机CM系列环抛机被光学专家赞誉为"代表中国新一代环抛机的发展方向"。而上海中晶企业发展有限公司作为目前国内大型环抛机的专业制造商,引领着中国环抛机的发展方向。

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环抛机功能

环抛机具有工件盘、修正盘主动受控环抛功能、自动开槽功能、各盘坐标定位功能、自动取放工件功能、机械手取放系统、温控系统、自动加液系统,还有诸多结合工艺的特殊系统和功能。

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环抛机常见问题

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环抛机文献

光纤连接器端面研抛机轨迹分析及均匀研抛机理研究 光纤连接器端面研抛机轨迹分析及均匀研抛机理研究

光纤连接器端面研抛机轨迹分析及均匀研抛机理研究

格式:pdf

大小:691KB

页数: 5页

分析了一种光纤连接器端面研抛机的运动原理。推导出工件相对于研磨盘的运动轨迹S1和研磨盘相对于工件的运动轨迹S2的表达式,得出S1、S2均为次摆线,分析了轨迹随相关参数的变化规律。对于S1,次外和次内摆线的分界点为速比I=1。研究了工件均匀研抛和砂纸均匀磨损的机理,即相对轨迹弧长S对相应半径R的微分dS/dR应与R成线性关系,推导出相应线性系数k的表达式,并通过单因素试验法求出优化参数配置。

采用环摆抛的双面抛光技术 采用环摆抛的双面抛光技术

采用环摆抛的双面抛光技术

格式:pdf

大小:691KB

页数: 4页

针对大口径方形超薄光学元件的抛光,提出一种新型的基于环摆抛的双面抛光方法,该方法将环形抛光和钟摆式抛光的运动方式和加工机理耦合起来,使其具备同步控制大口径方形超薄光学元件透射波前和反射面形的特点。从理论上介绍了该方法的抛光原理,利用研制的双面抛光原理样机,通过实验验证了对大口径超薄光学元件的面形修正能力,证实了这种双面抛光方法的可行性。该方法在控制大口径超薄光学元件的透射波前和反射面形上具有显著的效果。

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