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用于Si、GaN、蓝宝石等材料的干法蚀刻。
TCP刻蚀机的刻蚀分辨率:100nm;基片尺寸:2英寸、4英寸。
一般按张来算,一张多少钱加工费。
应该是用的吧,能和玻璃的主要成分二氧化硅反应。要能腐蚀玻璃的才行,B能与玻璃中的SiO2反应。烧碱碱反应很慢,而且光滑的表面还不能腐蚀。其他的不能反应。希望我的回答对你有帮助
ICP许可证,也称互联网信息服务业务经营许可证,或者增值电信业务许可证中的互联网信息服务业务。
不锈钢的刻蚀
1 不锈钢刻蚀 【摘要】 本文依据工业生产原理 ,设计了新的能处理较大面积工件的化学刻蚀装置,研究 了实验室条件下对不锈钢进行图纹装饰的方法和工艺。 通过上感光材料、感光、刻蚀、 上色等工艺实现了不锈钢的图案刻蚀,成功地制作出一批作品。 【关键词】 图纹装饰,不锈钢板,感光材料,刻蚀。 Etching on Stainless Steel Sheet Zhao Libing Chen Peixian Li Jiahang Long Jieming Wang Junxia Liu Chang Zhang Zhijun Liu Xiaofang Lu Yujing Xie Guangbin L ü Xueyi (Class 99, School of Chemistry and Chemical Engineering, Sun Yat-Sen University, Guangzh
干法刻蚀工艺总结
干法刻蚀工艺总结 离子束刻蚀机( IBE-150A) 背景 : 利用辉光放电原理将氩气分解为氩离子, 氩离子经过阳极电场的加速对样品表面 进行物理轰击, 以达到刻蚀的作用。 把 Ar、Kr 或 Xe之类惰性气体充入离子源放 电室并使其电离形成等离子体, 然后由栅极将离子呈束状引出并加速, 具有一定 能量的离子束进入工作室, 射向固体表面撞击固体表面原子, 使材料原子发生溅 射,达到刻蚀目的,属纯物理过程。 技术指标: 装片:一片六英寸衬底、或 1片四英寸,向下兼容。 抽气速度: 30min由 ATM 到 1.0×10-3Pa 极限真空度: 2×10-4Pa 离子能量: 300eV-400eV ICP 刻蚀机( OXFORD ICP 180) 背景 : 通入反应气体使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解, 产生的具有强化学活性 的等离子体在电场的加速作用下移动到样品表面, 对样品表面既进行化学
ICP干法刻蚀系统。 2100433B
主要功能:等离子刻蚀是利用高频辉光放电效应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀部位,与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性反应物而被去除。其优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。
通过电感耦合等离子体辉光放电分解反应气体,对样品表面进行物理轰击及化学反应生成挥发性气体,达到刻蚀的目的。 2100433B