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主要功能:等离子刻蚀是利用高频辉光放电效应,使反应气体激活成活性粒子,如原子或游离基,这些活性粒子扩散到需刻蚀部位,与被刻蚀材料进行反应,形成挥发性反应物而被去除。其优势在于快速的刻蚀速率同时可获得良好的物理形貌。