与传统抛光工艺相比，环保等离子纳米抛光工艺的优势主要表现在：

1、减轻环保压力。辉碟自动化可以有限公司所使用的纳米抛光液非常环保，其废液可以直接排放而不会造成污染，也可以稍作处理回收利用。纳米抛光加工费用低，有利于推广，并且对加工环境无污染，适应绿色制造的发展方向。

2、降低生产成本。半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备采用自动化控制，操作简单，维护方便，减少作业人员、降低人工成本。同时也可为客户节省因人工抛光、电解抛光、化学抛光等传统抛光方法而造成的许多材料消耗。

3、提高生产效率。半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备通过专用药剂可在十几秒到两分钟内达到电镀镜面效果，大大提高了生产效率。

4、纳米抛光效果好，提升产品品质。利用半自动、全自动环保等离子纳米抛光设备抛光出的产品具有高品质，而且可以对一些人工不可能抛光的精密工件加以抛光。其精度控制极高,尺寸影响小,通常可控制在0.1微米/分钟,抛光均匀，使整个工件表面和死角部位都可以达到一致的镜面效果。增强抛光面的抗腐蚀性能，抛光过程中使工件表面产生一层钝化膜，使其保持耐久光亮，有效防止氧化。高纯度，有效减小对电子类产品的沾污。抛光后产品的特性主要表现在：粗糙度降低，光洁度、精密度提高、坚硬耐用、缺口敏感性降低、变得光滑整齐、摩擦系数下降、磨损减少等。

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

微小非球面纳米抛光一直是一个未能解决的难题。传统的弹性或粘弹性固态抛光工具难以进入微小加工区；而采用高速射流加工，效率低，且由于空气扰动而导致抛光点偏大。针对这些问题，本课题提出一种基于负压吸流空穴效应的微细磨料流体纳米抛光新方法。将负压环境取代常压环境，利用负压产生的压差从微小吸嘴中吸出微细磨料并对加工面进行微切削，同时负压空穴效应产生微射流增强流体的冲蚀能力，进而获得超光滑非球面。配制性能优良的微细磨料流体，研制微小非球面抛光装置，进行工艺实验研究。探讨基于压差吸流空穴效应的纳米抛光机理，建立相应的动力学模型和材料去除模型，优化微量抛光路径与工艺参数，以实现微小非球面的纳米抛光。本项目的开展对于提高和发展我国微光学透镜及模具制造水平具有现实意义。

微小非球面纳米抛光在超精密光学加工中非常重要。传统的弹性或粘弹性固态抛光工具难以进入微小加工区；而采用高速射流加工，效率低，且由于空气扰动而导致抛光点偏大。针对这些问题，本课题提出一种基于负压吸流空穴效应的微细磨料流体纳米抛光新方法。将负压环境取代常压环境，利用负压产生的压差从微小吸嘴中吸出微细磨料并对工件进行微切削，同时负压空穴效应产生微射流增强流体的冲蚀能力，进而获得超光滑非球面。 项目提出了负压吸流抛光工艺方案，研发了实验装置平台，选择了相应的关键部件。对锥形、锥直形、圆柱形、流线型等四种不同喷嘴结构进行了仿真分析。研究了负压吸流条件下微磨料流体的材料去除机理，包括负压抽吸产生、空化现象和判断理论、空化气泡生长和断裂理论。利用混合多相流模型和空化模型进行了FLUENT模拟仿真。利用不同类型和直径的磨粒对光学玻璃进行了抛光实验。分析了不同磨料类型、磨粒大小和抛光距离对抛光工件的表面粗糙度的影响。利用不同类型、粒径的磨料对玻璃进行了纳米抛光工艺实验，研究不同磨料类型、不同粒径、不同抛光距离对抛光结果的影响。研究了不同负压下不同磨粒对碳化钨表面粗糙度的影响，并进行了工艺试验。 项目研究获得了部分重要的结论，包括：1）空穴在溃灭时产生瞬时高温高压，形成强烈的冲击波和高速微射流冲击壁面，材料去除在磨粒切削与空穴冲蚀作用下进行。2）出口为常压时，改变入口压力对空化效应的增强不明显；出口为负压时，空化效应的强度随着真空度的增加而增强。3）抛光区的形状都为弯月形。4）喷射压力越大，磨料剪切作用增强，但是存在一定的鲁棒性。喷射倾角减小，剪切力逐渐变大；剪切力随磨料浓度先增大再减少。5) 当抛光距离4mm，抛光压力0.25Mpa，真空度-0.04MPa，抛光时间120min，抛光液中金刚石磨料体积分数0.1，磨粒大小1μm。负压吸流抛光可以获得表面粗糙为Ra 0.8nm的碳化钨工件。 本项目的开展对于提高和发展我国微光学透镜及模具制造水平具有现实意义。

硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化镓抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液、不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液等。