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激光脉冲沉积方法薄膜沉积。 2100433B
三个高真空腔室独立运行,最低真空:10^-7Pa,最高温度:800℃。
凯德利冷机很高兴回答真空镀膜机械,一般应用在光学、光伏、太阳能等行业。这类设备上面冷却系统常跟这类厂家配套,比较了解。做这个比较好的一般分布广东、大连、青岛等地
要看镀什么产品,比如化妆品、车灯、电子产品、酒瓶等对机器的要求都不一样
真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
Vacuum coating equipment
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
一、电控柜的操作
1. 开水泵、气源
2. 开总电源
3. 开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。
5. 观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。
二、DEF-6B电子枪电源柜的操作
1. 总电源
2. 同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源:按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关,延时、电源及保护灯亮,三分钟后延时及保护灯灭,若后门未关好或水流继电器有故障,保护灯会常亮。
3. 开高压,高压会达到10KV以上,调节束流可到200mA左右,帘栅为20V/100mA,灯丝电流1.2A,偏转电流在1~1.7之间摆动。
三、关机顺序
1. 关高真空表头、关分子泵。
2. 待分子泵显示到50时,依次关高阀、前级、机械泵,这期间约需40分钟。
3. 到50以下时,再关维持泵。
1.建筑五金:卫浴五金(如水龙头).门锁.门拉手.卫浴、门锁、五金合叶、家具等
2.制表业:可用于表壳.表带的镀膜、水晶制品
3.其它小五金:皮革五金.不锈钢餐具.眼镜框、刀具、模具等.
4.大型工件:汽车轮毂、不锈钢板.招牌.雕塑等
5、不锈钢管和板(各种类型表面)
6、家具、灯具、宾馆用具
7、锁具、拉手、卫浴五金、高尔夫球头、不锈钢餐具、器血等五金制品镀超硬装饰膜。
8、手表、表带、眼镜、首饰等装饰品镀超耐磨装饰(金银)纳米膜和纳米膜和纳米叠层膜。
1、真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上,应清洁工作室一次。方法是:用烧碱(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁,( 注意人体皮肤不可以直接接触烧碱溶液,以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应,反应后膜层脱落,并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾汽油清洗精抽阀内的污垢。
2、当粗抽泵(滑阀泵,旋片泵)连续工作一个月(雨季减半),需更换新油。方法是:拧开放油螺栓,放掉旧油,再将泵启动数秒,使泵内的旧油完全排放出来。拧回放油螺栓,加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上,换油时应将油盖打开,用布擦干净箱内污垢。
3、扩散泵连续使用6个月以上,抽速明显变慢,或操作失当,充入大气,拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。方法是:启动维持泵,关好大门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到6X10帕,否则要进行检漏。检查联接处是否装密封胶圈,或压坏密封圈。排除漏气隐患后方可加热,否则扩散泵油会烧环,无法进入工作状态。2100433B
Vacuum coating equipment
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
规格/型号 | PLD800 | PLD1200 | PLD1600 |
称料斗容量 | 800L | 1200L | 1600L |
储料斗容量 | 1500L×2 | 2500L×2 | 3000L×2 |
生产率 | 48m3/h | 56m3/h | 75m3/h(干料) |
配料精确度 | ±1% | ±1% | ±1% |
最大称量值 | 2000kg | 3000kg | 3000kg |
可配料种类 | 2种 | 3种 | 3种 |
上料高度 | 2400mm | 3000mm | 3000mm |
送料皮带速度 | 1m/s | 1m/s | 1m/s |
功率 | 3×2.2=6.6kw | 3×4=12kw | 3×4+1×5.5=17.5kw |
整机重量 | 2450kg | 4500kg | 5600kg |
外形尺寸 (长×宽×高) | 5600×1830×2700mm | 9000×2200×3500mm | 9500×2500×3600mm |