生产玻化纤瓷板的抛光装置，属于陶瓷生产机械领域。包括由带有磨片和其驱动装置的磨头，其特征是在所述磨片和其驱动装置之间的驱动轴上设置减震缓冲机构；其所述的减震缓冲机构包括与驱动装置输出轴联接的第一传动齿轮、经传动轴与磨片联接且与第一传动齿轮套装啮和的第二转动齿轮、位于第一传动齿轮和第二传动齿轮之间的第一减震单元和位于第二转动齿轮与磨片之间的第二减震单元。本实用新型满足了对厚度在15mm以下玻化纤瓷板进行工业化大规模生产的需求，提高了产品的光泽度和镜面效果，提升了产品的档次和装饰效果，产品的抗污能力大大提高。可广泛用于板状陶瓷烧结体、玻化纤瓷板之生产领域。

从1940年开始，高氧化铈含量的稀土抛光粉开始取代氧化铁(即铁红)用于玻璃抛光，成为玻璃抛光加工过程中的关键工艺材料之一。与传统抛光粉-铁红粉相比，稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，而且能改变抛光质量和操作环境。例如用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。稀土抛光粉因其独特的化学机械作用原理而带来的高抛光效率，成为玻璃抛光材料的首选，被广泛用于镜片、光学元件(透镜、棱镜)、彩电玻壳、平板显示器用电子玻璃、硅片、磁盘玻璃基片等产品的抛光加工。

根据铈含量的不同，稀土抛光粉可分为高铈(>90%)、富铈(>70%)和低铈(<70%)三种。根据其应用领域的不同，稀土抛光粉产品可分为微米级、亚微米级、纳米级三类。

对氧化铈抛光机理的解释主要有以下几种学说:

(1)化学学说，即抛光过程是水、抛光剂、抛光模材料和玻璃之间化学作用的结果;

(2)纯机械作用学说，即抛光是研磨过程的继续;

(3)流变作用学说，即摩檫热使玻璃表面产生塑性变形和流动，或者是热软化以致熔融而产生流动，抛光过程是玻璃表面分子重新分布而形成平整表面的过程;

(4)机械、物理化学学说，即抛光过程是一机械的、物理化学作用的综合过程;许多专家认为，抛光是一机械的、物理化学的、化学的综合，其中机械作用是基本的，化学作用是重要的，而流变现象是存在的。氧化铈是极有效的抛光用化合物，因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。在抛光过程中，氧化铈抛光粉有两种作用，即机械作用与胶体化学作用，这两种作用是同时出现的。抛光的初始阶段，是CeO2去除表面凹凸层的过程，因而呈现出新的抛光面，这时机械作用是主要的。同时，由于抛光混合物中有水，在抛光过程中形成H3O+ 离子，在玻璃表面H3O+离子与Na+离子相互交换而与玻璃形成水解化合物;同时由于CeO2抛光剂具有多价的性质，Ce(III)/Ce(IV)的氧化还原反应会破坏硅酸盐晶格，并通过化学吸附作用，使玻璃表面与抛光剂接触的物质(包括玻璃及水解化合物)被氧化或形成(…Ce-O-Si…)络合物而被除去。

有以下三个方面:

原料选用:

生产抛光粉的原料按含铈量分为三种:高铈抛光粉用硝酸铈或氯化铈生产，硝酸铈生产的抛光粉颗粒性能更好;富铈抛光粉采用镧铈氯化物生产，所得抛光粉为白色;低铈抛光粉采用混合碳酸稀土或氟碳铈矿生产，颜色为棕红色。

沉淀方式:

沉淀过程决定了抛光粉晶粒的大小和形状，最终影响稀土抛光粉的抛光速度、耐磨性、流动性等应用性能。可采用草酸和碳酸氢铵两种沉淀剂生产抛光粉，草酸盐得到的抛光粉具有单晶结构，粉体具有良好的流动性，易于沉降，便用水力方法进行分级;碳酸盐得到的抛光粉呈片状团聚体结构，悬浮性较好，但耐磨性、流动性不如草酸盐生产的抛光粉，但因生产成本较低而得到广泛采用。

分级方式:

抛光粉在应用前均需进行分级，一般有水力沉降、湿式筛分、干式筛分、水力悬流分级、气流分级等方式。草酸盐生产的抛光粉一般采用湿式筛分或水力悬流分级;碳酸盐制得的抛光粉大多采用气流分级方式实现。

颗粒大小:决定了抛光精度和速度，一般用目数和平均颗粒大小来表征。过筛目数反映了最大颗粒的大小，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。

硬度:硬度大的颗粒具有较快的切削率，加入助磨剂也可以提高切削率。

悬浮性:高速抛光要求抛光粉具有较好的悬浮性，颗粒形状和大小对悬浮性有较大影响，片状的抛光粉以及小颗粒的抛光粉的悬浮性较好。悬浮性的提高也可以通过加入悬浮剂来实现。

颗粒结构:颗粒结构是团聚体颗粒还是单晶颗粒决定了抛光粉的耐磨性和流动性。团聚体颗粒在抛光过程中会破碎，从而导致耐磨性下降，单晶颗粒具有好的耐磨性和流动性。

颜色:与原料中的镨含量和温度有关，镨含量越高，抛光粉越显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨，因而显棕红色。对纯氧化铈抛光粉，焙烧温度高，抛光粉的颜色偏白红，温度低，颜色偏浅黄。

全球的稀土抛光粉生产总量约为2万吨，生产厂家主要有四种类型:光学辅料公司、磨料磨具公司、稀土冶金公司、化工材料公司。其中，光学辅料公司的生产量最小，在2000吨以下，磨料磨具行业最大，在7000吨左右，稀土行业和化工行业各生产5000吨。我国的稀土抛光粉的生产量和应用量大抵相等，每年生产 1万吨左右，其中国内自用8000吨，出口2000吨。

稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉-铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30~60分钟。所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物，是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。目前我国有稀土抛光粉厂几十家，生产规模上百吨的十余家。中外合资包头天骄清美稀土抛光粉有限公司是我国目前最大的稀土抛光粉厂之一，年生产能力1200吨，产品销往国内外。

在稀土抛光粉的消费中，日本是最大的消费者，每年约生产3550~4000吨抛光粉，产值35~40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉，其中最大的抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。

90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，对铈基抛光粉的需求量也迅速增加，估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%。90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如:日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用铈基抛光粉，1989年在台湾建立了一家独资企业，1990年投入生产，生产能力为每年1000吨，1997年又与我国包头钢铁公司合资在包头建立了一家专门生产彩电阴极射线管、电子管和平板玻璃抛光粉的企业，设计能力为每年1200吨，所用原料为高品位氟碳铈矿和富铈碳酸稀土，因此，新日本金属化学公司的阴极射线管用抛光粉因受来自中国大陆和台湾大量低价抛光粉的冲击，也有意从事用于液晶显示用高性能抛光粉的生产。东北金属化学公司计划专门从事光学镜头和液晶显示屏用抛光粉的生产，据悉，昭和电工计划投资5亿日元扩大其铈基抛光粉的生产能力，以满足电器设备和半导体装置等市场的需求，其独资公司东北金属化工公司将投资2.5亿日元以扩大铈基研磨剂的生产能力，其产品牌号为ROX，用于PC的液晶显示屏和硬盘的玻璃基体抛光，可望使其月产量达200吨，成为日本同行中的大户，其销售目标是2002年达20亿日元，昭和电工还将长野县投资2.5亿日元建一新厂，生产用于半导体的化学机械抛光粉，产品牌号为GPL，月产能力为200吨，2002年的销售额将达30亿日元。

磁射流抛光的发生装置由磁场发生装置、回收装置、搅拌装置、泵、冷却装置和机床本体等组成。在磁场发生装置中, 需要磁流变液在搅拌装置中得到充分搅拌以后, 由吸入泵按照限定的流量升压以后, 再经过处于磁场中的喷嘴高速碰射到工件表面, 进行确定性加工, 然后用收集器把使用过的磁流变液收集并进行过滤冷却, 从而进行下一轮的抛光。装置里的磁场发生装置是由螺线圈和充当铁芯的喷嘴组成的, 喷嘴是用铁磁性材料制成的锥形喷嘴, 锥形喷嘴有利于射流束速度的提高和磁场强度的集中。另外, 在螺线圈周围添加一个用高磁导率材料做成的磁屏蔽体, 可以使喷嘴处的磁场强度提高两倍以上, 有利于磁场强度的集中, 同时也可以使加工对象不受磁场的干扰, 使加工材料从光学材料扩展到导磁性材料, 很大程度上提高了磁射流抛光技术的应用范围。