中心拥有中国合格评定国家认可委员会（CNAS）的认可和广东省质监局计量认证，拥有第三方实验室独立地位，具备向社会出具公正检测数据的资质。

几年来，中心在863研发中心原来集成的国家863计划科研成果等离子体渗注镀复合处理技术、真空电弧离子镀技术、磁控溅射镀膜技术、微弧氧化技术、低温离子渗氮渗碳技术、全方位离子注入技术、金属蒸汽真空弧离子注入技术、等离子体化学气相沉积技术、多功能离子束增强沉积技术等先进技术设备的基础上，陆续配置了扫描电子显微镜、X射线能谱仪、X射线衍射仪、电化学综合测试系统、纳米力学综合测试系统、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪、微型二次离子质谱仪、红外吸收光谱仪、金相显微镜、大载荷划痕仪、X射线荧光测厚仪、轮廓仪、色差仪、显微硬度计、摩擦磨损实验机、金相制样设备等国际名牌分析测试仪器设备近20台（套），总价值1500万元，现有独立现代化实验室800平方米，规模居华南前列。

技术力量方面，该中心拥有一支由材料、物理、化学、机械、真空、精密仪器等学科专才组成的技术队伍，致力于材料分析测试与技术研发，并开展技术咨询、新材料新产品开发、技术规范和标准制订、培训等服务。中心现有30余名专业人才队伍中，博士3人，硕士6人，研究员级高工2人，高级工程师5人。

中心具有坚实的科研基础，拥有一支由材料、物理、化学、机械、真空、精密仪器等学科专才组成的技术队伍，致力于材料分析测试与技术研发。并在工业品检测、消费品检测等领域，提供有害物质、失效分析、材料分析、环境安全、纺织品、鞋类、皮革、玩具、汽车、食品、药品、化妆品等多项检测服务。中心在国内材料分析、失效分析、表面分析、金相分析等领域，在具有很高的知名度和权威性。

检测中心以“科学、公平、准确、高效”为质量方针，秉承“真诚服务客户”的宗旨，愿以准确的检验、公正的鉴定、满意的咨询竭诚为各行各业的顾客提供专业的质量技术服务，并不断丰富服务内容、完善服务手段、提高服务质量，成为备受客户信赖的技术合作伙伴。

近几年，深圳材料检测中心围绕企业和研发机构的需求，服务于深圳自主创新和循环经济发展战略，开展了一系列富有成效的工作，推动着深圳工业及高新技术产业的发展，加快了深圳自主创新的步伐，一批企业从中受益。

产品离不开材料，材料缺不得检测分析。在企业生产各环节，无论是新品开发及新技术、新工艺的采用，还是产品质量控制，材料的检测分析都起着保驾护航的作用。正因如此，工业及高新技术产业发达的深圳，对各种材料的检测分析产生了巨大需求。

但长期以来，深圳及周边企业的这种需求得不到有效满足。因缺乏全面、权威、高效的检测机构，企业经常要千里迢迢到外地进行材料的检测分析，费时费力，有时还耽误交货。

针对这种情况，市政府于2003年底批准并投资建设了深圳市材料表面分析检测中心。这个面向全社会的公共技术服务机构是一个具有独立法人资格的实验室，集专业性、开放性、权威性于一身，填补了深圳无专业材料分析检测机构的空白。

材料分析

金属材料测试、非金属材料测试、表面异物分析、涂镀层表面分析、配方分析。

失效分析

电子电路失效分析、材料及机械零部件失效分析、PCB板面清洁度测试、失效分析培训及咨询服务。

表面分析

表面形貌分析、表面成分分析、 表面化学状态分析、表面颜色、色差测试、表面相结构分析、表面应力分析、表面粗糙度测试、表面异物分析、表面失效分析、表面处理工艺判断。

膜层分析

膜层厚度分析、膜层成分分析、膜层化学状态分析、膜层颜色、色差测试、膜层相结构分析、 膜层应力分析、膜层表面粗糙度测试、多层膜深度剖析、膜层硬度、弹性模量测试、 膜基结合力/附着力测试、 膜层微观形貌分析、膜层摩擦磨损性能测试、 膜层加速腐蚀试验、 膜层腐蚀速率测试、膜层极化曲线、阻抗谱测试、膜层孔隙率分析、渗碳层、脱碳层、渗氮层、渗硼层、碳氮共渗层检测。

金相分析

金相制样、黑色及有色金属显微组织、低倍组织测定、 钢中非金属夹杂物测定、金属材料的晶粒度测定、钢的渗碳层、脱碳层、氮化层测定、淬硬层深度测量、灰铸铁和球墨铸铁金相检测、硬质合金的孔隙率、非化合碳及显微组织检测、 高速工具钢碳化物检测、金属焊接质量检测、膜层厚度测量、线路板切片观察、失效分析。

有害物质检测

测试项目：REACH法规、RoHS 指令、SVHC测试、无卤化趋势、挪威PoHS指令、德国GS认证之多环芳烃(PAHs)、PFOS&PFOA、富马酸二甲酯(DMF)。

挥发性有机物(VOC)

挥发性有机物(VOC)

玩具/儿童制品检测

欧盟EN71、美国CPSIA、欧盟镍释放量、八大重金属、邻苯二甲酸盐。

纺织品/鞋类

偶氮染料、Oeko-Tex Standard 100生态纺织品标签、甲醛、REACH法规、有毒有害物质、物理性能。

化妆品/包装材料

力学物理性能测试、溶剂残留量测试、有机农药残留量测试、 增塑剂、 材料分析。

环境监测

室内空气监测、水质监测、土壤监测。

食品

食品添加剂检测、 微生物测试、 营养标签、食品接触材料、有毒有害物质检测、饲料检测。

珠宝玉石

珠宝玉石鉴定、钻石分级、贵金属纯度测定、其它固体材料方面特殊的检测。

技术咨询/顾问/服务

技术咨询/顾问/服务 2100433B

自20世纪60年代中期金属型超高真空系统和高效率微弱信号电子检测系统的发展，导致70年代初现代表面分析仪器商品化以来，至今已产生了约50种表面分析技术。表面分析技术发展的动力来自两个方面，一方面是由于表面分析对了解表面性能至关重要，而表面性能又日益成为现代材料的至关重要的指标。另一方面，也来自科学家和工程师对探索未知的追求。从实用表面分析的角度看，在众多的表面分析技术中，有四种技术在过去的十几年内由世界上几家公司不断改进，巳发展为成熟的分析工具。它们是俄歇电子谱（AES），X射线光电子谱（XPS），二次离子质谱（SIMS）和离子散射谱（ISS），它们已应用渗透到材料研究的许多领域。

表面分析系统包括x射线光电子能谱（XPS）仪和紫外光电子能谱（UPS）仪，利用表面分析系统，可从原子层面上分析阴极材料的净化效果，分析激活前后阴极表面原子的构成和排列，进而可较深入地研究阴极的激活机制和NEA特性的形成机制。下面简单介绍激活评估实验系统中的表面分析子系统：

x射线光电子能潜（XPS）仪采用的是Perkin Elmer公司生产的PHl5300 ESCA系统。

其主要性能指标如下：

（1）峰值灵敏度可达10⁵计数/称（半高宽为0.8 eV），峰值灵敏度>10⁶计数/称（半高宽为1.0 eV）；

（2）表面分析审的极限真空度<1.5×10^-8Pa；

（3）变角XPS分析时掠射角的变化范围为5°～90°；

（4）X射线源的功率是可调的。

实验系统中的XPS仪采用了双阳极x射线源，其结构如图所示，主要由灯丝1、灯丝2、阳极1、阳极2和过滤窗几组成。两个阳极靶采用不同的材料制成，其中一个足Mg靶，另一个是Al靶，这样使该XPS仪具有两种激发源，阳极靶的这种结构对鉴别俄歇峰是有利的。过滤窗口是由铝箔制成的，铝箔滤窗可以有效防止来自X射线源的辐射，阻止来自阴极灯丝的电子混入能量分析

器中，对样品溅射时可以使阳极表面免受污染。

该XPS系统采用的半球型能量分析器是静电偏转式的，分析器外部采用可屏蔽杂散磁场十扰的合金材料，能够精确地对电子的能量分布进行测定，能量分析器词过控制电压产生电场，具有一定能量的被测电子进入分析器入口后，就会在电场的作用下发生偏转，然后在出口处聚集，最后通过内部的检测器进行收集、放大和处理。

该XPS系统采用无油系统的泵配置，使其性能更加可靠。在主真空室上设计了两个盲口，一个用于表面分析室通过带波纹管的管道与激活系统真空室的连接，连接处设计有一个闸板阀，只在样品传送时才开启，这样就将两个超高真空系统的互相影响降到最低。另一个盲口用于扩展紫外光电子能谱（UPS）仪。

紫外光电子能谱（UPS）仪采用的是PH106一180型UPS系统。该系统工作时真空度约为1.3X10-6Pa，分辨率可达几十毫电子伏。紫外光电子能谱仪使用的是紫外范围的光子，紫外光比x射线能量低，是用来激发样品最外层即价壳层电子的，所以紫外光电子能谱仪多用来研究样品的能带结构和表面态情况。该表面分析系统中的能量分析器与表面分析室为UPS和XPS共同使用，UPS系统的紫外光源为He气体放电时产生的HeⅠ（21.22 eV）和HeⅡ（40.81eV）共振线。

表面科学研究的是表面和与表面有关的宏观和微观过程，从原子水平认识和说明表面原子的化学、几何排列、运动状态、电子态等性质及其与表面宏观性质的联系。表面分析的主要内容有：

（1）表面化学组成：表面元素组成，表面元素的分布，表面元素的化学态，表面化学键，化学反应等；可用技术：XPS（X- ray Photoelectron Spectroscopy，X射线光电子能谱）、AES（Auger Electron Spectroscopy，俄歇电子能谱）、SIMS（Secondary Ion Mass Spectroscopy，二次离子质谱）、ISS（ Ion Scattering Spectroscopy，离子散射谱）。

（2）表面原子结构：表面层原子的几何配置，确定原子间的精确位置。表面弛豫，表面再构，表面缺陷，表面形貌；可用技术：LEED（Low Energy ElectronDiffraction，低能电子衍射）、RHEED（Reflection High - Energy Electron Diffrac-tion，反射式高能电子衍射）、EXAFS（Extended X- ray Absorption Fine Structure，扩展X射线吸收精细结构谱）、SPM（Scanning Probe Microscope，扫描探针显微镜）、FIM（Field Ion Microscope，场离子显微镜）。

（3）表面原子态：表面原子振动状态，表面吸附（吸附能、吸附位）、表面扩散等；可用技术：EELS（Electron Energy Loss Spectroscopy，电子能量损失谱）、RAIRS（Reflection Absorption InfraRed Spectroscopy，反射吸收红外谱）。

（4）表面电子态：表面电荷密度分布及能量分布（DOS）、表面能级性质、表面态密度分布、价带结构、功函数、表面的元激发。可用技术：UPS（UltravioletPhotoelectron Spectroscopy，紫外光电子能谱）、ARPES（Angle Resolved PhotoEmis-sion Spectroscopy，角分辨光电子能谱）、STM（Scanning Tunneling Microscope，扫描隧道显微镜）。

20世纪60年代全金属超高真空（UHV）技术商品化后，极大地促进了表面和界面科学的发展，开发了多种表面分析技术，这些技术覆盖了电子和离子谱、表面结构测定方法以及原子成像方法等，可用以从原子、分子的微观尺度七获取更多表面组成与性质的基本知识。白70年代以来，随着世界范匍内的半导体工业、微电子技术和航天技术的兴起，对表面、界面科学和分析的重视和需求达到r李前的地步，也推动了表面科学和技术的迅速和持续发展。表面发生的过程对从半导体技术到异相催化等各个领域具有极大的实用性和重要意义，对同体表面相关的问题的研究逐渐成为基础科学研究的前沿。