自20世纪60年代中期金属型超高真空系统和高效率微弱信号电子检测系统的发展，导致70年代初现代表面分析仪器商品化以来，至今已产生了约50种表面分析技术。表面分析技术发展的动力来自两个方面，一方面是由于表面分析对了解表面性能至关重要，而表面性能又日益成为现代材料的至关重要的指标。另一方面，也来自科学家和工程师对探索未知的追求。从实用表面分析的角度看，在众多的表面分析技术中，有四种技术在过去的十几年内由世界上几家公司不断改进，巳发展为成熟的分析工具。它们是俄歇电子谱（AES），X射线光电子谱（XPS），二次离子质谱（SIMS）和离子散射谱（ISS），它们已应用渗透到材料研究的许多领域。
