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微机械,微流体器件,生物支架等的制作。 2100433B
最小成型厚度2um;最大成型尺寸XZY各30mm;使用he-cd激光器,可选多种快速成型用树脂。
使用中可能产生的问题及售后服务保证 (一).使用环境 雕刻机为高科技机电一体化设备,对工作环境有一定的要求。 1.避开强电、强磁等严重影响雕刻机信号传输的设备。如:电焊机、发射塔等。 2.使用三芯电源...
蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。光刻机(Mask Aligner)...
立式激光机和卧室激光机的区别:1、立式激光机:激光管直接放置于工作台面的上方,激光束不移动,而是工作台面移动;立式激光机优点:不使用反射镜,避免激光的损耗和擦拭镜片的问题,日常维护量小;立式激光机缺点...
利用光刻机挡板优化MPW光罩布局
伴随着国内市场竞争的日趋激烈,常规的MPW(多项目晶圆)布局也不能满足客户的要求,同时也不能最大限度地降低设计公司的研发成本,也不利于国内foundry厂市场的开拓。鉴于此,文章着重提出了利用光刻机挡板把光罩进行区域划分,在不增加流片和满足客户要求的前提下,使光罩得到最大限度的利用,降低了客户的流片费用。通过在15cm片上流片验证,更加突出了此优化光罩布局的方法在研发成本和满足客户要求等方面的优越性,因而这种布局对我国集成电路的发展和新产品的研发工作,特别是对国内中小企业的成长提供了有力的支持,也为foundry厂赢得市场提供了重要的手段。
立体仓储设备
襄阳国铁机电股份有限公司技术规格书 立体仓储设备 1.功能 (1)基本功能 自动化立体仓储设备由货架、有轨巷道堆垛起重机、出入库水平输送系 统、穿梭小车、钢制托盘及计算机管理系统等组成。全套设备的功能基于物流 和信息流控制紧密结合——即在计算机控制软件中设置一套对物流运动进行动 态跟踪的信息流系统,实现货物搬运及存取机械化、仓库管理自动化,使材料 及配件的储存、管理、周转联成一体,确立合理的储存量,减少仓储费用,建 立最佳的物流组织形式。 襄阳国铁机电股份有限公司技术规格书 襄阳国铁机电股份有限公司技术规格书 襄阳国铁机电股份有限公司技术规格书 一 区 立 库 二 区 立 库 入出库区域 规模: 6X44X7 货位数: 3696 规模: 6X10X7 货位数: 840 襄阳国铁机电股份有限公司技术规格书 (2)主要功能 系统有应有货物均匀存放功能、柔性分区功能。 系统需提供动画跟踪
光刻图形缺陷的来源主要有三种:一是材料带来的,例如,光刻胶过期形成的悬浮颗粒;二是设备产生的,例如,旋涂时匀胶显影机内的颗粒掉在晶圆表面;三是不完善的工艺产生的,例如曝光条件偏离了最佳点,导致图形质量下降,出现图形丢失(missing pattern)。
为了确保工艺中尽量少地出现缺陷,在光刻中一般分两个部分来监测。一是旋涂后光刻胶薄膜中颗粒的监测,即所谓旋涂缺陷(coating defects)。二是曝光后图形的缺陷检测。
集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。随着半导体技术的发展,光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了2~3个数量级(从毫米级到亚微米级),已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术;使用波长已从4000埃扩展到0.1埃数量级范围。光刻技术成为一种精密的微细加工技术。
常规光刻技术是采用波长为2000~4500埃的紫外光作为图像信息载体,以光致抗蚀剂为中间(图像记录)媒介实现图形的变换、转移和处理,最终把图像信息传递到晶片(主要指硅片)或介质层上的一种工艺(图1)。在广义上,它包括光复印和刻蚀工艺两个主要方面。
在平面晶体管和集成电路的制造过程中,要进行多次光刻。为此,必须制备一组具有特定几何图形的光刻掩模。制版的任务就是根据晶体管和集成电路参数所要求的几何图形,按照选定的方法,制备出生产上所要求的尺寸和精度的掩模图案,并以一定的间距和布局,将图案重复排列于掩模基片上,进而复制批量生产用版,供光刻工艺曝光之用。