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光刻图形缺陷的来源主要有三种：一是材料带来的，例如，光刻胶过期形成的悬浮颗粒；二是设备产生的，例如，旋涂时匀胶显影机内的颗粒掉在晶圆表面；三是不完善的工艺产生的，例如曝光条件偏离了最佳点，导致图形质量下降，出现图形丢失（missing pattern）。
为了确保工艺中尽量少地出现缺陷，在光刻中一般分两个部分来监测。一是旋涂后光刻胶薄膜中颗粒的监测，即所谓旋涂缺陷（coating defects）。二是曝光后图形的缺陷检测。
