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无掩模直写光刻系统

无掩模直写光刻系统是一种用于机械工程领域的仪器,于2015年12月22日启用。

无掩模直写光刻系统基本信息

无掩模直写光刻系统主要功能

微纳无掩膜加工。

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无掩模直写光刻系统造价信息

  • 市场价
  • 信息价
  • 询价

光刻花大理石材

  • 成品
  • 13%
  • 广州金仓石材有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

光刻花大理石材

  • 成品
  • 13%
  • 佛山市九次方建材有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

烟感系统

  • 烟感系统
  • 中霍
  • 13%
  • 广东霍曼实业有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

Corkeen软木地面系统

  • 厚度(mm):10
  • 绣林康体
  • 13%
  • 广州市绣林康体设备有限公司
  • 2022-12-07
查看价格

Corkeen软木地面系统

  • 厚度(mm):15
  • 绣林康体
  • 13%
  • 广州市绣林康体设备有限公司
  • 2022-12-07
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2012年2季度信息价
  • 建筑工程
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年3季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年2季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

高压喷药系统

  • 台班
  • 广州市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
查看价格

高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
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光刻

  • 1.激光雕刻字体 2.其他满足设计要求
  • 1.0个
  • 3
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-08-28
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油玻璃布

  • 0m²
  • 1
  • 含税费 | 含运费
  • 2010-01-20
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部分电梯对讲系统

  • 6台
  • 1
  • 高档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2017-08-24
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304不锈钢激光刻

  • 304不锈钢
  • 700个
  • 1
  • 国内优质
  • 高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2017-12-06
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304不锈钢激光刻

  • 304不锈钢
  • 1个
  • 1
  • 高档
  • 不含税费 | 含运费
  • 2017-06-14
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无掩模直写光刻系统技术指标

1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直写面积 3. 1微米对准精度 4. 200nm自动对焦精度。

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无掩模直写光刻系统常见问题

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无掩模直写光刻系统文献

相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术 相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术

相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术

格式:pdf

大小:479KB

页数: 6页

掺Tm3+光纤激光器在工业、医疗、科技及军事领域具有重要应用前景。光纤布拉格光栅(FBG)是构成光纤激光器的重要元件。但掺Tm3+光纤不具备光敏性,利用紫外脉冲激光很难在其中刻写FBG,即使采用增敏技术提高其光敏性,获得的FBG的折射率调制量也很小,尚不能满足应用要求,阻碍了掺Tm3+光纤激光器全光纤化的发展。以相位掩模法的基本原理为基础,从理论上分析了以飞秒激光为刻写光源的技术要点,总结出与传统紫外激光刻写技术之间的差异及需要注意的问题。建立了飞秒激光相位掩模法刻写光纤光栅的实验系统,利用飞秒激光相位掩模法在非光敏光纤上刻写Bragg光栅,在非光敏掺Tm3+硅基光纤上获得了衍射阶次为二的光纤Bragg光栅,并给出了显微镜下观察到的光栅结构。实验结果证明:飞秒激光可以将FBG刻写入非光敏性硅基光纤,并且具有成栅时间短的优点。

玻璃银光刻 玻璃银光刻

玻璃银光刻

格式:pdf

大小:479KB

页数: 2页

玻璃银光刻作为在玻璃上进行的美术创作,呈现给世人的是一个银光异彩的镜画世界。玻璃银光刻最早出现于民国初期的上海。当时上海市场的衣柜门上出现了一种既具观赏性又有实用性的装饰镜,之后这种装饰方法在全国各地流行开来。上世纪50年代,温州玻璃银光刻的第一代传人邵思荣在上海学习并将该种制镜的工艺技法带回温州,后传授于其弟邵松。上世纪70年代,邵松又将该门制镜技艺传授给了温州龙湾民间艺人项有礼。

光刻掩模光刻掩模制作

在平面晶体管和集成电路的制造过程中,要进行多次光刻。为此,必须制备一组具有特定几何图形的光刻掩模。制版的任务就是根据晶体管和集成电路参数所要求的几何图形,按照选定的方法,制备出生产上所要求的尺寸和精度的掩模图案,并以一定的间距和布局,将图案重复排列于掩模基片上,进而复制批量生产用版,供光刻工艺曝光之用。

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无掩膜激光直写光刻机概念

小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3,通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案,而无需掩膜版,专为实验室设计开发,适用于各种实验室桌面。

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无掩膜激光直写光刻机技术特征

Focus Lock自动对焦

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

光学轮廓仪

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。

简单的直写软件

MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件

可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

书写范围只由基片尺寸决定

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