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无掩模直写光刻系统主要功能

无掩模直写光刻系统主要功能

微纳无掩膜加工。

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无掩模直写光刻系统造价信息

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光刻花大理石材

  • 成品
  • 13%
  • 广州金仓石材有限公司
  • 2022-12-07
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光刻花大理石材

  • 成品
  • 13%
  • 佛山市九次方建材有限公司
  • 2022-12-07
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时光

  • 表面处理:亮;系列:雕时光;用途:墙地砖;品种:釉面砖;颜色:白色;600×300;销售分类:AT;渠道:全渠道聚焦;产品大类:釉面砖;产
  • m2
  • 斯米克
  • 13%
  • 景德镇磊禧建材有限公司
  • 2022-12-07
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主监控系统软件

  • IPAS2000
  • 13%
  • 南宁安普电力设备有限公司(玉林市厂商期刊)
  • 2022-12-07
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会议系统主

  • 技术参数:1.话筒容量:有线单元支持4096台、无线单元支持300台2.通道数量:16CH(默认)、32CH、64CH3.频率响应:20Hz-20KHz4.信噪比:>85dB(A)5.动态范围:>80dB6.总谐波失真:<0.05%7.电源:90-132VAC/180-264VACbyswitch8
  • 13%
  • 广州市保伦电子有限公司
  • 2022-12-07
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2012年2季度信息价
  • 建筑工程
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年3季度信息价
  • 建筑工程
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年2季度信息价
  • 建筑工程
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高压喷药系统

  • 台班
  • 广州市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
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高压喷药系统

  • 台班
  • 汕头市2011年1季度信息价
  • 建筑工程
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楼层过道主要功能场地指引牌

  • (1)规格:450×2850×150mm(2)1.0mm镀锌板激光切割冲压焊接烤漆,内容镂空内置LED亚克力发光
  • 1套
  • 3
  • 中高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2022-09-21
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系统增加功能

  • 1项
  • 1
  • 广州凤凰
  • 中档
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2019-08-12
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5080触摸屏逻辑功能

  • 5080 触摸屏逻辑功能
  • 2套
  • 1
  • 高档
  • 含税费 | 不含运费
  • 2015-12-18
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反恐系统功能模块

  • 1套
  • 3
  • 高档
  • 含税费 | 含运费
  • 2020-07-23
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光刻

  • 1.激光雕刻字体 2.其他满足设计要求
  • 1.0个
  • 3
  • 不含税费 | 不含运费
  • 2017-08-28
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无掩模直写光刻系统技术指标

1. 1微米分辨率 2. 150mm*150mm有效直写面积 3. 1微米对准精度 4. 200nm自动对焦精度。

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无掩模直写光刻系统主要功能常见问题

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无掩模直写光刻系统主要功能文献

道闸主要功能 道闸主要功能

道闸主要功能

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道闸 主要功能: 功能一,手动按钮可作 ‘升’‘降’及‘停’操作、无线遥控可作 ‘升’‘降’‘停’及对手动按钮的 ‘加锁’‘解锁 ’操作 ; 功能二,停电自动解锁,停电后可手动抬杆 ; 功能三,具有便于维护与调试的 ‘自检模式 ’; 道闸 道闸又称挡车器,最初从国外引进,英文名叫 Barrier Gate ,是专门用于道路上限 制机动车行驶的通道出入口管理设备 ,现广泛应用于公路收费站、 停车场系统 管理车 辆通道,用于管理车辆的出入。电动道闸可单独通过无线遥控实现起落杆,也可以通过 停车场管理系统 (即 IC 刷卡管理系统)实行自动管理状态,入场取卡放行车辆,出场 时,收取 停车费 后自动放行车辆。

相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术 相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术

相位掩模法红外飞秒激光刻写光纤光栅技术

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掺Tm3+光纤激光器在工业、医疗、科技及军事领域具有重要应用前景。光纤布拉格光栅(FBG)是构成光纤激光器的重要元件。但掺Tm3+光纤不具备光敏性,利用紫外脉冲激光很难在其中刻写FBG,即使采用增敏技术提高其光敏性,获得的FBG的折射率调制量也很小,尚不能满足应用要求,阻碍了掺Tm3+光纤激光器全光纤化的发展。以相位掩模法的基本原理为基础,从理论上分析了以飞秒激光为刻写光源的技术要点,总结出与传统紫外激光刻写技术之间的差异及需要注意的问题。建立了飞秒激光相位掩模法刻写光纤光栅的实验系统,利用飞秒激光相位掩模法在非光敏光纤上刻写Bragg光栅,在非光敏掺Tm3+硅基光纤上获得了衍射阶次为二的光纤Bragg光栅,并给出了显微镜下观察到的光栅结构。实验结果证明:飞秒激光可以将FBG刻写入非光敏性硅基光纤,并且具有成栅时间短的优点。

光刻掩模光刻掩模制作

在平面晶体管和集成电路的制造过程中,要进行多次光刻。为此,必须制备一组具有特定几何图形的光刻掩模。制版的任务就是根据晶体管和集成电路参数所要求的几何图形,按照选定的方法,制备出生产上所要求的尺寸和精度的掩模图案,并以一定的间距和布局,将图案重复排列于掩模基片上,进而复制批量生产用版,供光刻工艺曝光之用。

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无掩膜激光直写光刻机概念

小型台式无掩膜光刻机Microwriter ML3,通过激光直写在光刻胶上直接曝光制作所需要的图案,而无需掩膜版,专为实验室设计开发,适用于各种实验室桌面。

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无掩膜激光直写光刻机技术特征

Focus Lock自动对焦

Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。

直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。

光学轮廓仪

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向最高精度100 nm,方便快捷。

简单的直写软件

MicroWriter ML3由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件

可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式

书写范围只由基片尺寸决定

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