真空科学与技术丛书:真空镀膜
《真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。《真空镀膜》具有权威性、实用性和通用性。
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《真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。《真空镀膜》具有权威性、实用性和通用性。
在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射...
麻烦写详细点,真空镀膜招聘,招什么样的人材,是镀膜工程师,还是工艺员,或者是技术工,或者是主操什么的?说话不带主谓
所谓真空镀膜就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。一、镀膜的方法及分类在真空条件下成膜有很多优点：可减少蒸发材料的原子、...
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行
<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空
真空镀膜技能初现于20世纪30年代，四五十年代开端呈现工业使用，工业化大规模生产开端于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中获得广泛的使用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的方式堆积到资料外表(通常是非金属资料)，归于物理气相堆积工艺。由于镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包含在金属或非金属资料外表真空蒸镀聚合物等非金属功用性薄膜。在所有被镀资猜中，以塑料最为常见，其次，为纸张镀膜。相对于金属、陶瓷、木材等资料，塑料具有来历足够、功能易于调控、加工方便等优势，因而品种繁复的塑料或其他高分子资料作为工程装修性结构资料，大量使用于汽车、家电、日用包装、工艺装修等工业范畴。但塑料资料大多存在外表硬度不高、外观不行富丽、耐磨性低一级缺点，如在塑料外表蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，适宜的金属源还可大大添加资料外表耐磨功能，大大拓宽了塑料的装修性和使用规模。
真空镀膜设备首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，详细包含很多品种，包含真空离子蒸腾，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。首要思路是分红蒸腾和溅射两种。
米开罗那手套箱蒸镀一体机由真空镀膜系统和手套箱系统集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完成薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体氛围下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。
设备用途
首要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等试验研究与应用。
长处
蒸发镀膜与手套箱组合，实现蒸镀、封装、测试等工艺全封闭制造，使整个薄膜成长和器材制备进程高度集成在一个完好的可控环境氛围的体系中，消除有机大面积电路制备进程中大气环境中不稳定要素影响，保证了高功能、大面积有机光电器材和电路的制备。
真空镀膜的功用是多方面的，这也决定了其使用场合非常丰富。整体来说，真空镀膜的首要功用包含赋予被镀件外表高度金属光泽和镜面作用，在薄膜资料上使膜层具有超卓的隔绝功能，供给优异的电磁屏蔽和导电作用。
真空镀膜技术是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属)，属于物理气相沉积工艺，因为镀层常为铝、锡、铟等金属的薄膜，故也称为真空金属化。
真空镀膜的功能主要是赋予被镀件表面具有高度的金属光泽和镜面效果，尤其在车灯罩方面有很重要的聚光效果，其次是赋予镀膜层出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。
真空镀膜根据镀膜气相金属产生的方式和沉积方式的不同，分为热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法两种工艺。其中，磁控溅射法由于镀膜层和基材的结合力强，镀膜层致密、均匀等优点，更具有技术优势。
真空镀膜材料以金属和金属氧化物为主。金属型镀膜材料有铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等;合金型镀膜材料有镍-铬、镍-铁、铁-钴、金-银-金等;金属化合物有二氧化硅、二氧化钛、二氧化锡等。其中，尤以铝应用最多最普遍。这主要因为铝蒸发温度低、易操作、铝镀层对塑料附着力好、对紫外线和气体阻隔性强、价格低廉。
《真空镀膜设备》详细介绍了真空镀膜设备的设计方法与镀膜设备各机构元件的设计计算、设计参数的选择，其中重点、系统地介绍了磁控溅射靶的设计计算和溅射镀膜的膜厚均匀性设计。全书共分13章，主要讲解真空镀膜室结构、镀膜室工件架、真空镀膜机的加热与测温装置、真空镀膜机的抽气系统、真空室电和运动的导入结构、溅射镀膜设备的充布气系统、蒸发源、磁控溅射靶、溅射镀膜的膜厚均匀性等方面的设计与计算。
《真空镀膜设备》有很强的实用性，适合真空镀膜设备的设计制造、真空镀膜设备的应用等与真空镀膜技术有关的行业从事设计、设备操作与维护的技术人员使用，还可用作高等院校相关专业师生的教材及参考书。
1 真空镀膜设备设计概述
2 真空镀膜室结构设计计算
2.1 基本设计原则
2.1 2镀膜室的材料选择与焊接要求
2.2.1 材料选择
2.2.2 焊接要求
2.3 镀膜室壁厚的计算
2.3.1 镀膜室的计算壁厚
2.3.2 镀膜室的实际壁厚与壁厚附加量
2.3.3 镀膜室的最小壁厚
2.4 圆筒形镀膜室壳体的设计计算
2.4.1 圆筒形镀膜室基本设计参数
2.4.2 圆筒形镀膜室的强度(壁厚)计算
2.4.3 外压圆筒加强圈的设计
2.4.4 简体加工允许偏差
2.4.5 镀膜室封头的壁厚计算
2.5 圆锥形壳体的设计
2.6 盒形壳体设计
2.7 压力试验
2.8 真空镀膜室门设计
2.9 真空镀膜室的冷却
3 镀膜室升降机构的设计
3.1 立式镀膜机真空室的升降机构
3.1.1 机械升降机构
3.1.2 液压升降机构
3.1.3 气动液压相结合的升降机构
3.2 真空室的复位
4 镀膜室工件架的设计
4.1 常用工件架
4.1.1 球面行星传动工件架
4.1.2 摩擦传动工件架
4.1.3 齿轮传动工件架
4.1.4 拨杆传动工件架
4.2 工件架的转速
5 真空镀膜机的加热与测温装置
5.1 加热方式及其装置
5.2 测温方式与装置
5.3 真空室内引线设计
6 真空镀膜机的挡板机构
7 真空镀膜机的抽气系统设计
7.1 镀膜设备用真空系统
7.1.1 普通镀膜设备用典型高真空系统
7.1.2 超高真空系统
7.2 真空镀膜机抽气系统的设计
7.2.1 真空镀膜设备对抽气系统的要求
7.2.2 镀膜机抽气系统的放气量计算
7.2.3 真空泵的选择
8 真空室内电和运动的导人导出结构设计
8.1 电导人导出结构设计
8.1.1 电导入导出结构设计要求
8.1.2 电导入导出部件的结构形式
8.2 运动导入导出结构设计
8.2.1 常规转轴动密封导入导出结构
8.2.2 磁流体动密封运动导入导出结构
8.2.3 金属波纹管密封柔性运动导入导出结构
8.2.4 磁力驱动动密封运动导入导出结构
9 充布气系统设计
9.1 充布气系统设计原则
9.2 充布气系统结构设计
9.2.1 充布气系统类型及结构
9.2.2 布气管路结构形式
9.2.3 充布气管路分析计算
9.3 充气控制方式设计
9.3.1 封闭式气压稳定充气控制
9.3.2 质量流量控制器充气控制
9.4 真空室内充大气时间计算
10 电磁屏蔽结构设计
10.1 真空镀膜设备屏蔽概述
10.2 电磁辐射屏蔽设计
11 蒸发源的设计计算
11.1 电阻加热式蒸发源的热计算
11.2 e型枪蒸发源的设计计算
11.2.1 灯丝参数计算
11.2.2 磁偏转线圈及灯丝位置的确定
11.2.3 膜材蒸发时所需热量
11.2.4 e型枪蒸发源的水冷却
11.2.5 e型枪蒸发源的电源
11.2.6 多枪蒸发源的设计安装
11.3 感应加热式蒸发源的结构设计
11.3.1 坩埚设计
11.3.2 电源及其频率的选择
11.4 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布
11.4.1 点蒸发源的膜厚分布
11.4.2 小平面蒸发源膜厚分布
11.4.3 环形蒸发源
11.4.4 矩形平面蒸发源
11.4.5 蒸发源与基片的相对位置
12 磁控溅射靶的设计
12.1 靶磁场的设计原则
12.1.1 磁场强度的选择
12.1.2 磁场均匀性：
12.1.3 矩形靶弯道磁场设计
12.1.4 磁场设计改进方法
12.2 磁控靶的磁场设计计算
12.2.1 三维直角坐标系中的靶磁场
12.2.2 矩形平面磁控溅射靶的磁场
12.2.3 圆形平面磁控溅射靶的磁场计算
12.2.4 同轴圆柱磁环溅射靶的磁场计算
12.2.5 同轴圆柱条形磁体溅射靶的磁场计算
12.2.6 S枪溅射靶的磁场计算
12.3 平面磁控靶结构改进
12.3.1 运动磁场的靶结构
12.3.2 双环组合磁极靶结构
12.3.3 组合磁场靶结构
12.3.4 磁场分流靶结构
12.3.5 其他磁体形式的靶结构
12.4 永磁体及导磁片设计
12.4.1 永磁体材料
12.4.2 导磁垫片
12.5 阳极与屏蔽罩的设计
12.5.1 阳极设计
12.5.2 屏蔽罩设计
12.6 溅射靶水冷系统的设计与计算
12.6.1 冷却水流速率的计算
12.6.2 冷却水管内径的计算
12.6.3 冷却水管长度
12.7 靶材的设计选择
12.7.1 靶材的种类
12.7.2 靶材的选用原则
12.7.3 对靶材的技术要求
12.7.4 靶材与阴极背板的连接
12.7.5 常用靶材
12.8 磁控溅射靶设计方法
12.8.1 靶设计分析方法
12.8.2 磁控靶设计程序
13 溅射镀膜的膜厚均匀性设计
13.1 溅射镀膜不均匀性的原因及影响因素
……
先进的手套箱真空镀膜技术