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清洁表面是指在特殊环境中经过特殊处理后获得的表面,是不存在吸附、催化反应或杂质扩散处理等物理、化学效应的表面,例如,经过离子轰击、高温脱附、超高真空解离、蒸发薄膜、场效应蒸发、化学反应、分子束外延等特殊处理后,保持在超高真空下,外来沾污少到不能用一般表面分析方法探测的表面。