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晶彩格反光喷绘布基本介绍

2018/06/19132 作者:佚名
导读: 这种新型材料的特点是:一、超强的反光强度:他的反射技术是基于目前世界上最先进的微晶格全反光射技术的反光材料,有超强的反光强度,典型的反光强度可达到300cd/lx/m2。二、可直接进行喷绘:其面层为PVC高分子材料,吸墨性强、可直接进行喷绘。三、使用方便:其基材类型有夹网布和PVC不干胶型,夹网布基层有超强的抗拉强度,可像普通的夹网布一样使用,直接喷绘,直接绷紧安装;PVC不干胶型可直接在任

这种新型材料的特点是:

一、超强的反光强度:他的反射技术是基于目前世界上最先进的微晶格全反光射技术的反光材料,有超强的反光强度,典型的反光强度可达到300cd/lx/m2。

二、可直接进行喷绘:其面层为PVC高分子材料,吸墨性强、可直接进行喷绘。

三、使用方便:其基材类型有夹网布和PVC不干胶型,夹网布基层有超强的抗拉强度,可像普通的夹网布一样使用,直接喷绘,直接绷紧安装;PVC不干胶型可直接在任何光洁的面料上进行粘贴使用。

*文章为作者独立观点,不代表造价通立场,除来源是“造价通”外。
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