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光纤通信用光电子器件制作工艺基础内容简介

2018/06/19204 作者:佚名
导读: 本书较全面地介绍了光纤通信用光电子器件和组件的制作工艺(包括工艺理论基础和可供参考的工艺数据)。它从激光二极管、光探测器、光调制器和半导体光放大器等主要光电子器件的结构入手,论述为实现这些结构所必须的主要制作工艺技术,重点介绍了Si基和Ⅲ-V族化合物基光电子器件的材料制备(包括各种外延生长技术)、光刻和腐蚀、掺杂、介质膜和金属膜制备、器件和组件的组装和封装等工艺技术。本书是编著者多年工作经验

本书较全面地介绍了光纤通信用光电子器件和组件的制作工艺(包括工艺理论基础和可供参考的工艺数据)。它从激光二极管、光探测器、光调制器和半导体光放大器等主要光电子器件的结构入手,论述为实现这些结构所必须的主要制作工艺技术,重点介绍了Si基和Ⅲ-V族化合物基光电子器件的材料制备(包括各种外延生长技术)、光刻和腐蚀、掺杂、介质膜和金属膜制备、器件和组件的组装和封装等工艺技术。

本书是编著者多年工作经验之积累,也展示制作工艺中的最新技术,是一部光纤通信用光电子器件较为全面的制作工艺类技术书。该书可供从事光纤通信用光电子器件的设计、研究、制作人员的使用和参考,也可供大专院校光通信、光电子技术专业师生使用和参考。

*文章为作者独立观点,不代表造价通立场,除来源是“造价通”外。
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