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1.用于制造半导体，尤其是在外延法工艺中作为硅源。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相沉积二氧化硅和氮化硅。它的硅含量比三氯氢硅和四氯化硅高，二氯二氢硅沉积硅更有效，且淀积温度比其他氯硅烷低。采用二氯二氢硅在降低温度下沉积厚层所需时间大大低于采用硅烷所需时间。由于二氯二氢硅的沉积速率与采用其他氯硅烷相比对温度敏感性小，因此可以采用调节氢气流中二氯二氢硅浓度的方法来控制沉积速率，而且不会出现鼓泡所带来的不准确性和机械问题。2.用于甲硅烷基化剂，及合成硅的有机化合物。[21]
