第1章 X射线光电子能谱分析技术

1.1 引言

1.2 仪器构造与样品制备

1.2.1 X射线源

1.2.2 超高真空系统（IJHV）

1.2.3 分析器与数据系统

1.2.4 其他附件

1.2.5 灵敏度和检测限

1.2.6 清洁表面制备

1.3 基本原理

1.3.1 XPS的物理基础

1.3.2 XPS谱的结合能参照基准

1.3.3 结合能化学位移

1.4 XPS在化学上的应用及实例解析

1.4.1 定性分析

1.4.2 定量分析

1.5 新技术

1.5.1 单色化XPS（Mono XPS）和小面积XPS（SAXPS）

1.5.2 SAXPS深度剖析

1.5.3 成像XPS（iXPS）

1.5.4 XPS线扫描分析

本章小结

参考文献

第2章 X射线粉末衍射分析技术

2.1 引言

2.2 X射线粉末衍射仪

2.2.1 基本构造

2.2.2 工作原理

2.2.3 试样制备

2.2.4 应用及图例解析

本章小结

参考文献

第3章 俄歇电子能谱分析技术

3.1 引言

3.2 俄歇表面分析技术的基本理论

3.2.1 俄歇过程和俄歇电子

3.2.2 俄歇电子能量与特征谱线的关系

3.2.3 俄歇电子的强度

3.2.4 化学效应

3.3 仪器结构

3.3.1 样品室

3.3.2 电子枪

3.3.3 氩离子枪

3.3.4 电子能量分析器

3.3.5 检测器

3.3.6 真空系统

3.3.7 俄歇电子能谱仪的分辨率和灵敏度

3.4 实验技术

3.4.1 样品的制备技术

3.4.2 离子束溅射技术

3.4.3 样品的荷电问题

3.4.4 俄歇电子能谱的采样深度

3.5 俄歇电子能谱图的分析技术

3.5.1 表面元素定性鉴定

3.5.2 表面元素的半定量分析

3.5.3 表面元素的化学价态分析

3.5.4 深度分析

3.5.5 微区分析2100433B