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水晶激光内雕技术水晶激光内雕

2018/06/19153 作者:佚名
导读: 随着光电子技术的飞速发展,光威激光内雕机雕刻技术应用范围越来越广泛,雕刻精度要求越来越高。影响激光雕刻的4个最根本的要素是:雕刻速度、激光功率、雕刻精度、材料。在特定材料上如要达到一定的雕刻效果,就要求吸收一定能量的激光,这一能量应看作是材料吸收的激光能量=激光功率/雕刻速度。简单地讲就是要提高材料吸收的激光能量,就应提高激光功率或是降低雕刻速度,至于说最后采用哪种方法就要看材料和最终的雕刻

随着光电子技术的飞速发展,光威激光内雕机雕刻技术应用范围越来越广泛,雕刻精度要求越来越高。影响激光雕刻的4个最根本的要素是:雕刻速度、激光功率、雕刻精度、材料。在特定材料上如要达到一定的雕刻效果,就要求吸收一定能量的激光,这一能量应看作是材料吸收的激光能量=激光功率/雕刻速度。简单地讲就是要提高材料吸收的激光能量,就应提高激光功率或是降低雕刻速度,至于说最后采用哪种方法就要看材料和最终的雕刻效果。一般来讲用户都会避免

高低速度,因为那会降低生产效率。其实影响雕刻效率的不仅是雕刻速度,雕刻精度也对其有非常大影响

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