Activator 150用于SiC或GaN器件注入后退火，独
特工艺炉管和加热系统设计允许工艺温度可达1950 ℃. Centrotherm最新研发SiC工艺炉管用以满足新兴的150毫米SiC衬底工艺。
Activator 150-5 是为研发工作而定制的;Activator 150-50 专为大批量生产而设计,为了缩短生产周期Activator 150-50采用机械手自动传片系统。
Activator 150通过碳化硅升华生长石墨层，可以获得高性能器件，该工艺在圆片区域石墨的生成尺寸达到直径150毫米。
