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· 高活化效率 · 最小表面粗糙度
· 最大温度可达 1950 ℃
· 占地少 [1.8 m2]
· 升温速率可达 100 K/min
· 批处理包括 2″，3″, 4", 6"
· 批处理数量达到 40 片硅片[2″], 50 片硅片 [6"]
· 真空度小于10-3 mbar [可选]
· 可并排安装石墨烯生长
