半导体制程设备概述
2018/06/19219
作者：佚名
导读：作品目录第1章 晶体成长和晶圆制作第2章 磊晶沉积设备第3章 微影照相设备第4章 化学气相沉积炉第5章 氧化扩散高温炉第6章 离子植入机第7章 乾蚀刻机第8章 蒸镀机第9章 溅镀机第10章 化学机械研磨
作品目录
第1章 晶体成长和晶圆制作
第2章 磊晶沉积设备
第3章 微影照相设备
第4章 化学气相沉积炉
第5章 氧化扩散高温炉
第6章 离子植入机
第7章 乾蚀刻机
第8章 蒸镀机
第9章 溅镀机
第10章 化学机械研磨
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