氧化锆陶瓷气氛一般分为氧化、还原和中性三种，在氧化锆陶瓷烧结中气氛的影响是很复杂的。一般地说，在由扩散控制的氧化锆陶瓷烧结中，气氛的影响与扩散控制因素有关，与气孑L内气体的扩散和溶解能力有关。

氧化锆陶瓷材料是由阴离子(07)扩散速率控制烧结过程，当它在还原气氛中烧结时，晶体中的氧从表面脱离，从而在品格表面产生很多氧离子空位，使09扩散系数增大导致烧结过程加速。

氧化锆陶瓷是不同气氛下Q-A1203中02扩散系数与温度的关系。在较慨的温度下利用气孑L内气体在还原气氛下易于逸出的原理可使材料致密，从而提高透光度。若氧化锆陶瓷的烧结是由阳离子扩散速率控制，则在氧化气氛中烧结，表面积聚了大量氧，使阳离子空位增加，则有利于阳离子扩散的加速而促进烧结。

进入封闭气孑L内气体的原子尺寸愈小愈易于扩散，气孔消除也愈容易。如氩或氮那样的大分子气体，在氧化锆陶瓷晶格内不易自由扩散而最终残留在坯体中，但若是氖或氦那样的小分子气体，扩散性强，可以在品格内自由扩散，因而烧结与这些气体的存在无关。

当样品中含有铅、锂、铋等易挥发物质时，控制烧结时的气氛更为重要。氧化锆陶瓷钛酸铅材料烧结时，必须要控制一定分压的铅气氛，以抑制坯体中铅的大量逸出，并保持坯体严格的化学组成，否则将影响材料的性能。

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