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ALD原子层沉积系统技术指标

2022/07/15174 作者：佚名
导读：沉积材料：Al2O3、ZnO 工艺温度：最高500℃ 样品尺寸：4英寸向下兼容 沉积速率： Al2O3 10nm/125cycle ZnO 20nm/125cycle。

沉积材料：Al2O3、ZnO 工艺温度：最高500℃ 样品尺寸：4英寸向下兼容 沉积速率： Al2O3 10nm/125cycle ZnO 20nm/125cycle。

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