1.一种液晶玻璃基板的生产方法，该生产方法包括：a、将玻璃基板原料混合后送入池炉区（1）的池炉中进行高温熔融，得到熔融玻璃液；b、将步骤a所得熔融玻璃液送入铂金区（2）的铂金通道中进行净化，得到净化玻璃液；c、将步骤b所得净化玻璃液送入成型区（3）的退火炉中进行固化，得到玻璃板；d、将步骤c所得玻璃板送入热切区（4）的定型炉中进行切割，然后经过热切外围区（5）的运输送入半包区（6）进行检查后完成液晶玻璃基板的包装，得到液晶玻璃基板半成品；其特征在于，控制所述池炉区（1）操作环境压力高于大气压4-6帕，控制所述铂金区（2）操作环境压力高于大气压14-16帕，控制所述成型区（3）操作环境压力高于大气压10.5-12.5帕，控制所述热切区（4）操作环境压力高于大气压14-16帕，控制所述热切外围区（5）操作环境压力高于大气压11-13帕，控制所述半包区（6）操作环境压力高于大气压6-8帕；以ISO14644-1为标准，控制所述热切区（4）操作环境和热切外围区（5）操作环境的洁净等级为950-1050，控制所述半包区（6）操作环境的洁净等级为4850-5150；控制所述池炉区（1）操作环境的温度为29-31℃，控制所述铂金区（2）操作环境的温度为41-43℃，控制所述成型区（3）操作环境的温度为25-27℃，控制所述热切区（4）操作环境的温度为24-26℃，控制所述热切外围区（5）操作环境的温度为24-26℃，控制所述半包区（6）操作环境的温度为24-26℃；控制所述铂金区（2）操作环境的相对湿度为55-65％，控制所述热切区（4）操作环境的相对湿度为45-55％，控制所述热切外围区（5）操作环境的相对湿度为45-55％，控制所述半包区（6）操作环境的相对湿度为45-55％；控制所述铂金区（2）操作环境的露点温度为31-33℃。

2.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板的生产方法，其特征在于，以所述玻璃基板原料总质量为基准，所述玻璃基板原料包括56-64重量％的SiO₂、7-11重量％的B₂O₃、14-18重量％的Al₂O₃、0.01-10重量％的BaO、3-8重量％的CaO、0.5-8重量％的SrO、0-0.5重量％的ZnO、0-4重量％的MgO、0-0.5重量％的ZrO₂和0.1-1重量％的澄清剂。

3.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板的生产方法，其特征在于，所述池炉区（1）、铂金区（2）、成型区（3）、热切区（4）、热切外围区（5）和半包区（6）中各自独立地设置有压力传感器、静压箱、排风机或调节式风阀；该生产方法还包括：通过压力传感器探测压力并通过控制器控制静压箱、排风机或调节式风阀，从而控制所述池炉区（1）、铂金区（2）、成型区（3）、热切区（4）、热切外围区（5）和半包区（6）的操作环境压力。

4.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板的生产方法，其特征在于，通过调节各区域的总的送风量和总的排风量控制所述池炉区（1）、铂金区（2）、成型区（3）、热切区（4）、热切外围区（5）和半包区（6）的操作环境压力。

5.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板的生产方法，其特征在于，所述池炉中高温熔融的温度为1500-1600℃，所述退火炉中进行固化的温度为100-200℃，所述定型炉出口进行切割的温度为100-160℃。

6.根据权利要求1所述的液晶玻璃基板的生产方法，其特征在于，所述铂金通道中的温度为1200-1600℃ 。