采用得较多的等离子体喷涂、化学气相沉积、物理气相沉积、物理-化学气相沉积组合技术等制备方法，基本上都是在涂层中进行组成和结构的梯度分布，虽然可以一定程度缓解界面热应力，但由于涂层材料的内渗限制和基体表面不可避免的钝化现象存在，不可能彻底消除涂层材料与基体材料的界面，仍然存在较大的界面能和界面热应力，不利于涂层材料与基体材料的结合。
20世纪90年代新开发出的PIII-IBED技术将等离子体浸没离子注入与离子束增强沉积相结合，利用注入、沉积、注镀结合、界面动态反冲混合效应等，能够较好地解决组分的梯度分布问题，是一种具有广阔应用前景的功能梯度涂层材料制备技术。
