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测量薄膜电阻变化来控制金属膜厚度是最简单的一种膜厚监控方法。以用惠斯顿电桥测量薄膜电阻率为例，用这种方法可以测量电阻从1欧姆到几百兆欧姆的电阻，若加上直流放大器，电阻率的控制精度可达0.01%。
但是随着薄膜厚度的增加，电阻减小要比预期的慢，导致的原因是膜层的边界效应、薄膜与块材之间的结构差异以及残余气体的影响。因此，用该方法对膜厚监控的精度很难高于5%。就是这样，电阻法在电学镀膜中还是常被使用的。
