《一种防止EL污染的太阳能电池板刻蚀工艺》的目的在于提供一种防止EL污染的太阳能电池板刻蚀工艺，以解决上述背景技术中提出的问题。
《一种防止EL污染的太阳能电池板刻蚀工艺》包括以下步骤：
步骤1，镀膜准备：在待刻蚀硅片的上、下表面均镀上一层铝膜；
步骤2，初级除杂：将步骤1中得到的硅片放入去离子水池，向水池内持续通入氧气，同时对水池加热3～5分钟；
步骤3，次级除杂：将步骤2中去离子水池内的硅片取出，去除下表面铝膜，然后浸入初级刻蚀液中，充分反应30～45秒；
步骤4，去除剩余铝膜：取出步骤3中充分反应后的硅片，去除上表面剩余铝膜；
步骤5，刻蚀准备：对去除剩余铝膜的上表面使用去离子水冲洗，并在上表面形成水膜；
步骤6，进行刻蚀：将步骤5得到的硅片放入刻蚀机内进行刻蚀。
优选的，步骤1中铝膜厚度为15～20厘米。
优选的，步骤2中对水池采用变温加热，且温度变化范围为700℃～900℃。
优选的，步骤3中的初级刻蚀液由硝酸、氢氟酸、草酸、亚磺酸、乙醇以及去离子水按照体积比3:1:0.5:0.3:0.08:6配制而成。
优选的，步骤3和步骤4中对铝膜的去除均使用裁切机进行。
《一种防止EL污染的太阳能电池板刻蚀工艺》在硅片上、下表面镀上一层铝膜，然后将硅片放入去离子水池中进行加热，通过加热的方式，使得铝膜的设置可以很好的实现吸杂效果，而且向水池内通乳氧气，使得硅片的含氧量增大，从而提高少子寿命和电池板使用效率。
该发明中在加热完成后，将下表面的铝膜裁切掉，放入初级刻蚀液中，不光可以对硅片进行初级刻蚀，而且上表面的铝膜可以与初级刻蚀液中的酸发生反应，在反应过程中，合理控制反应时间，铝膜进一步的对硅片内的杂质进行吸附，然后取出反应完成的硅片，通过裁切机将上表面反应剩余的铝膜去除，再采用去离子水冲洗，很好的实现进一步除杂的作用，最后再对此硅片放入刻蚀机内进行刻蚀。
该发明通过初级除杂时铝膜、氧气以及变温加热的效果，实现对硅片的除杂，然后通过次级除杂时的初级刻蚀液与铝膜的反应作用，使得铝膜对硅片内部的杂质进一步吸附，从而更好的实现硅片除杂功能，在硅片的刻蚀过程中，通过初级除杂和次级除杂的作用，在刻蚀的同时有效的防止EL污染，减少漏电电池板和隐裂电池板的产生，非常有效。
